| 摘要 | 第8-10页 |
| ABSTRACT | 第10-12页 |
| 符号说明 | 第13-14页 |
| 第一章 绪论 | 第14-26页 |
| 1.1 引言 | 第14-15页 |
| 1.2 透明导电氧化物薄膜的研究现状 | 第15-18页 |
| 1.2.1 ITO透明导电氧化物薄膜 | 第16-17页 |
| 1.2.2 AZO透明导电氧化物薄膜 | 第17-18页 |
| 1.3 透明导电氧化物薄膜的应用 | 第18-20页 |
| 1.3.1 TCO薄膜在电容式触摸屏中的应用 | 第19页 |
| 1.3.2 TCO薄膜在太阳能电池中的应用 | 第19-20页 |
| 1.4 透明导电氧化物薄膜的制备技术 | 第20-22页 |
| 1.4.1 真空蒸发镀膜 | 第20-21页 |
| 1.4.2 溅射镀膜 | 第21页 |
| 1.4.3 脉冲激光沉积 | 第21-22页 |
| 1.4.4 化学气相沉积 | 第22页 |
| 1.5 红外透明导电氧化物薄膜的研究现状 | 第22-25页 |
| 1.5.1 掺钨氧化铟(IWO)薄膜 | 第22-23页 |
| 1.5.2 掺锆氧化铟(IZO)薄膜 | 第23-24页 |
| 1.5.3 其他红外透明导电氧化物薄膜 | 第24-25页 |
| 1.6 本论文的主要工作 | 第25-26页 |
| 第二章 薄膜制备及表征方法 | 第26-38页 |
| 2.1 射频磁控溅射设备及原理 | 第26-28页 |
| 2.1.1 射频磁控溅射原理 | 第26-27页 |
| 2.1.2 实验仪器介绍 | 第27-28页 |
| 2.2 薄膜的制备 | 第28-29页 |
| 2.2.1 衬底清洗 | 第28-29页 |
| 2.2.2 样品制备 | 第29页 |
| 2.3 表征方法及原理 | 第29-38页 |
| 2.3.1 薄膜厚度 | 第29-30页 |
| 2.3.2 薄膜结构特性 | 第30-31页 |
| 2.3.3 薄膜形貌特性 | 第31-33页 |
| 2.3.4 薄膜电学性能 | 第33-34页 |
| 2.3.5 薄膜光学特性 | 第34-38页 |
| 第三章 周期性ITO/AZO薄膜的制备及性能研究 | 第38-56页 |
| 3.1 周期性ITO/AZO薄膜的制备 | 第38页 |
| 3.2 单层膜厚对ITO/AZO周期膜性能的影响 | 第38-45页 |
| 3.2.1 单层膜厚对ITO/AZO周期膜结构特性的影响 | 第38-40页 |
| 3.2.2 单层膜厚对ITO/AZO周期膜形貌特性的影响 | 第40-41页 |
| 3.2.3 单层膜厚对ITO/AZO周期膜电学特性的影响 | 第41-42页 |
| 3.2.4 单层膜厚对ITO/AZO周期膜光学特性的影响 | 第42-45页 |
| 3.3 总厚度对ITO/AZO周期膜性能的影响 | 第45-49页 |
| 3.3.1 总厚度对ITO/AZO周期膜结构特性的影响 | 第45-46页 |
| 3.3.2 总厚度对ITO/AZO周期膜形貌特性的影响 | 第46页 |
| 3.3.3 总厚度对ITO/AZO周期膜电学特性的影响 | 第46-47页 |
| 3.3.4 总厚度对ITO/AZO周期膜光学特性的影响 | 第47-49页 |
| 3.4 周期数对ITO/AZO多层膜性能的影响 | 第49-55页 |
| 3.4.1 周期数对ITO/AZO周期膜结构特性的影响 | 第49-51页 |
| 3.4.2 周期数对ITO/AZO周期膜形貌特性的影响 | 第51页 |
| 3.4.3 周期数对ITO/AZO周期膜电学特性的影响 | 第51-53页 |
| 3.4.4 周期数对ITO/AZO周期膜光学特性的影响 | 第53-55页 |
| 3.5 本章小结 | 第55-56页 |
| 第四章 ITO/AZO复合膜的制备及性能研究 | 第56-64页 |
| 4.1 ITO/AZO复合膜的制备 | 第56页 |
| 4.2 ITO/AZO复合膜的性能研究 | 第56-61页 |
| 4.2.1 结构特性 | 第56-57页 |
| 4.2.2 形貌特性 | 第57-58页 |
| 4.2.3 电学特性 | 第58-60页 |
| 4.2.4 光学特性 | 第60-61页 |
| 4.3 本章小结 | 第61-64页 |
| 第五章 结论 | 第64-68页 |
| 5.1 主要结果 | 第64-65页 |
| 5.2 主要创新点 | 第65-68页 |
| 参考文献 | 第68-72页 |
| 致谢 | 第72-74页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文目录 | 第74-75页 |
| 学位论文评阅及答辩情况表 | 第75页 |
