| 摘要 | 第1-8页 |
| Abstract | 第8-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-28页 |
| ·引言 | 第10-11页 |
| ·纳米TiO_2光催化剂 | 第11-15页 |
| ·纳米TiO_2的晶体结构及能带结构 | 第11-12页 |
| ·TiO_2光催化机理 | 第12页 |
| ·纳米TiO_2的制备方法 | 第12-14页 |
| ·纳米TiO_2的应用 | 第14-15页 |
| ·纳米TiO_2的改性 | 第15-22页 |
| ·过渡金属离子和稀土离子掺杂 | 第15-16页 |
| ·非金属离子掺杂 | 第16-17页 |
| ·离子共掺杂 | 第17页 |
| ·贵金属沉积 | 第17-18页 |
| ·光敏化 | 第18页 |
| ·半导体复合 | 第18-22页 |
| ·石墨烯概述 | 第22-27页 |
| ·石墨烯的结构 | 第22页 |
| ·石墨烯对光催化剂的影响 | 第22-23页 |
| ·石墨烯的制备 | 第23-24页 |
| ·石墨烯的表征方法 | 第24-25页 |
| ·石墨烯的应用 | 第25-27页 |
| ·课题的提出 | 第27-28页 |
| 第2章 实验过程及研究方法 | 第28-33页 |
| ·实验所用试剂 | 第28页 |
| ·实验所用主要仪器设备 | 第28-29页 |
| ·样品的制备 | 第29-30页 |
| ·GO的制备 | 第29页 |
| ·WO_3粉体的制备 | 第29-30页 |
| ·WO_3/TiO_2-rGO复合光催化材料的的制备 | 第30页 |
| ·甲基橙光催化降解测试 | 第30-31页 |
| ·建立标准浓度曲线 | 第30页 |
| ·光催化性能测试 | 第30-31页 |
| ·Ni~(2+)溶液浓度测试 | 第31页 |
| ·建立标准浓度曲线 | 第31页 |
| ·测试方法 | 第31页 |
| ·结构与形貌分析 | 第31-33页 |
| ·X-射线衍射（XRD）分析 | 第31-32页 |
| ·透射电子显微镜（TEM）分析 | 第32页 |
| ·荧光发射光谱分析 | 第32-33页 |
| 第3章 WO_3粉体制备的WO_3/TiO_2-rGO复合材料 | 第33-44页 |
| ·引言 | 第33页 |
| ·材料的结构与形貌分析 | 第33-39页 |
| ·XRD分析 | 第33-36页 |
| ·TEM分析 | 第36-37页 |
| ·荧光发射光谱分析 | 第37-39页 |
| ·复合材料的光催化性能 | 第39-42页 |
| ·WO_3粉体加入量对降解甲基橙的影响 | 第39-40页 |
| ·rGO加入量对降解甲基橙的影响 | 第40-41页 |
| ·煅烧温度对降解甲基橙的影响 | 第41-42页 |
| ·复合材料对Ni~(2+)溶液的还原 | 第42页 |
| ·本章小结 | 第42-44页 |
| 第4章 钨酸铵制备的WO_3/TiO_2-rGO复合材料 | 第44-54页 |
| ·引言 | 第44页 |
| ·复合材料结构与形貌分析 | 第44-50页 |
| ·XRD分析 | 第44-46页 |
| ·TEM分析 | 第46-47页 |
| ·荧光发射光谱分析 | 第47-50页 |
| ·复合材料的光催化性能 | 第50-53页 |
| ·WO_3复合量对降解甲基橙的影响 | 第50-51页 |
| ·rGO引入量对降解甲基橙的影响 | 第51页 |
| ·煅烧温度对降解甲基橙的影响 | 第51-52页 |
| ·复合材料对Ni~(2+)溶液的还原 | 第52-53页 |
| ·本章小结 | 第53-54页 |
| 结论 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |
| 附录A 攻读学位期间所发表的学术论文目录 | 第61页 |
