摘要 | 第1-7页 |
Abstract | 第7-12页 |
1 绪论 | 第12-23页 |
·高熵合金研究背景及意义 | 第12页 |
·高熵合金研究的理论基础 | 第12-15页 |
·高熵合金概念的提出 | 第12-13页 |
·高熵合金的热力学与动力学分析 | 第13-15页 |
·高熵合金的四大效应 | 第15-18页 |
·高熵合金效应 | 第15-16页 |
·晶格畸变效应 | 第16页 |
·迟滞扩散效应 | 第16-17页 |
·鸡尾酒效应 | 第17-18页 |
·高熵合金组织、性能与应用 | 第18-20页 |
·相结构与显微组织 | 第18-19页 |
·高熵合金性能特征及应用 | 第19-20页 |
·耐蚀多组元高熵合金涂层国内外研究进展 | 第20-21页 |
·研究目标与研究内容 | 第21-23页 |
·研究目标 | 第21-22页 |
·研究内容 | 第22页 |
·技术路线 | 第22-23页 |
2. 高熵合金涂层的制备及研究方法 | 第23-31页 |
·实验材料与仪器 | 第23-24页 |
·实验原料 | 第23页 |
·实验设备 | 第23-24页 |
·精密仪器 | 第24页 |
·磁控溅射原理及设备 | 第24-27页 |
·磁控溅射原理 | 第24-25页 |
·实验设备及操作 | 第25-27页 |
·耐蚀涂层的制备 | 第27页 |
·基片预处理 | 第27页 |
·涂层溅射工艺 | 第27页 |
·涂层表征与测试 | 第27-31页 |
·FESEM表面形貌及EDX分析 | 第27-28页 |
·涂层密度分析 | 第28页 |
·XRD物相分析 | 第28-29页 |
·AFM三维形貌分析 | 第29页 |
·涂层附着力测试 | 第29-30页 |
·动电位扫描测试 | 第30页 |
·自然状态下腐蚀形貌分析 | 第30-31页 |
3. 高熵合金涂层的制备工艺研究 | 第31-43页 |
·引言 | 第31页 |
·偏压对涂层的影响 | 第31-36页 |
·偏压对沉积速率的影响 | 第31-32页 |
·偏压对表面粗糙度的影响 | 第32-34页 |
·偏压对涂层密度的影响 | 第34-35页 |
·偏压对涂层附着力的影响 | 第35-36页 |
·溅射气压对涂层的影响 | 第36-42页 |
·溅射气压对沉积速率的影响 | 第36-37页 |
·溅射气压对表面粗糙度的影响 | 第37-39页 |
·溅射气压对涂层密度的影响 | 第39-41页 |
·溅射气压对涂层附着力影响 | 第41-42页 |
·本章小结 | 第42-43页 |
4. AlTiCrNi Ta系高熵合金涂层耐蚀性能研究 | 第43-63页 |
·引言 | 第43页 |
·AlTiCrNiTa涂层的表征 | 第43-45页 |
·XRD物相分析 | 第43-44页 |
·FESEM及元素表征 | 第44-45页 |
·AlTiCrNiTa涂层在 3.5wt%NaCl溶液中的耐蚀性能研究 | 第45-48页 |
·Tafel曲线分析 | 第45页 |
·阳极极化腐蚀形貌分析 | 第45-47页 |
·自然状态下腐蚀形貌分析 | 第47-48页 |
·AlTiCrNiTa涂层在 0.5mol/L H_2SO_4 溶液中的耐蚀性能影响 | 第48-51页 |
·动电位阳极极化分析 | 第48页 |
·阳极极化腐蚀形貌分析 | 第48-49页 |
·自然状态下腐蚀形貌分析 | 第49-51页 |
·制备工艺对AlTiCrNiTa系高熵合金涂层耐蚀性能 | 第51-62页 |
·偏压对涂层耐蚀性能的影响 | 第51-53页 |
·溅射气压对涂层耐蚀性能的影响 | 第53-55页 |
·溅射功率对涂层耐蚀性能的影响 | 第55-57页 |
·热处理对涂层耐蚀性能的影响 | 第57-62页 |
·本章小结 | 第62-63页 |
5. 结论与展望 | 第63-65页 |
·结论 | 第63页 |
·创新点 | 第63页 |
·展望 | 第63-65页 |
参考文献 | 第65-69页 |
攻读学位期间发表的学术论文及成果 | 第69-70页 |
致谢 | 第70页 |