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碳纳米管场发射技术及电真空器件研究

摘要第1-6页
ABSTRACT第6-10页
一、绪论第10-31页
 1. 场发射技术简介第10-14页
   ·场发射原理第10-11页
   ·场发射相关因素第11-12页
   ·场发射阴极材料第12-14页
 2 碳纳米管介绍第14-29页
   ·碳纳米管的结构及分类第15-17页
   ·碳纳米管的性质第17-19页
   ·碳纳米管的制备第19-21页
   ·碳纳米管的应用第21-29页
 3. 立题的目的与意义第29-30页
 4. 技术路线第30-31页
二、实验设备与实验方法第31-35页
 1. CVD 系统和碳纳米管的制备第31-32页
   ·CVD 系统的设计第31-32页
   ·碳纳米管的制备第32页
 2. 碳纳米管结构表征设备第32-33页
   ·SEM第32-33页
   ·HRTEM第33页
 3. 场发射测试系统设计第33-35页
   ·二极式场发射阴极的设计第33-34页
   ·三极式场发射阴极的设计第34-35页
三 实验结果与分析第35-55页
 1. 二极式场发射测试第35-45页
   ·场发射电流密度和外加电场强度的关系第36-37页
   ·碳纳米管样品场发射的重复性第37-39页
   ·碳纳米管场发射的 F-N 特性分析第39-44页
   ·碳纳米管场发射稳定性分析第44-45页
 2. 三极式场发射阴极测试第45-48页
   ·碳纳米管电子源的性能第45-46页
   ·三极式场发射阴极透过率的影响因素第46-48页
 3. 电真空器件研究第48-55页
   ·基于气体吸附的 MWNTs 场发射真空计第48-54页
   ·CNT 源电离真空计第54-55页
四、总结第55-58页
参考文献第58-65页
致谢第65-67页
攻读硕士学位期间发表的学术论文第67页

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