摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-11页 |
第1章 绪论 | 第11-23页 |
·研究背景及意义 | 第11页 |
·重金属污染及处理技术 | 第11-14页 |
·重金属污染 | 第11-13页 |
·重金属处理技术 | 第13-14页 |
·分子印迹技术(MIT) | 第14-20页 |
·分子印迹技术的原理 | 第14-15页 |
·印迹聚合物和模板分子的结合方式 | 第15-16页 |
·分子印迹聚合物的合成材料 | 第16-19页 |
·分子印迹聚合物的应用 | 第19-20页 |
·离子印迹聚合物(IIP) | 第20-21页 |
·以过渡金属离子为模板 | 第20-21页 |
·以镧系和锕系离子为模板 | 第21页 |
·本论文研究内容 | 第21-23页 |
第2章 实验与操作步骤 | 第23-31页 |
·实验原料 | 第23-24页 |
·实验仪器 | 第24页 |
·溶液配制 | 第24-25页 |
·实验方案与方法 | 第25-31页 |
·实验方案 | 第25-26页 |
·AP-SiO_2的合成与性能评价 | 第26-27页 |
·水杨醛类IIP-Sal/SiO_2、NIIP-Sal/SiO_2的制备 | 第27页 |
·丙酮酸类IIP-PA/SiO_2、NIIP-PA/SiO_2的制备 | 第27-28页 |
·一溴乙酸类IIP-MBAA/SiO_2、MBAA/SiO_2的制备 | 第28页 |
·离子印迹聚合物与非离子印迹聚合物表征 | 第28页 |
·对IIP-SiO_2、NIIP-SiO_2静态吸附性能的测定 | 第28-31页 |
第3章 AP-SiO_2的制备与性能评价 | 第31-34页 |
·合成条件对AP-SiO_2性能的影响 | 第31-33页 |
·活化方法的影响 | 第31-32页 |
·反应时间的影响 | 第32-33页 |
·KH550用量的影响 | 第33页 |
·小结 | 第33-34页 |
第4章 新型印迹硅胶材料的合成 | 第34-43页 |
·IIP-SiO_2合成的初步实验 | 第34-38页 |
·IIP-Sal/SiO_2合成的初步实验 | 第34-35页 |
·IIP-PA/SiO_2合成的初步实验 | 第35-36页 |
·IIP-MBAA/SiO_2合成的初步实验 | 第36-38页 |
·IIP-SiO_2合成的优化实验 | 第38-39页 |
·IIP-Sal/SiO_2合成的优化实验 | 第38页 |
·IIP-PA/SiO_2合成的优化实验 | 第38-39页 |
·IIP-MBAA/SiO_2合成的优化实验 | 第39页 |
·NIIP-SiO_2的合成 | 第39-40页 |
·吸附剂性能确定与表征 | 第40-41页 |
·红外表征 | 第40-41页 |
·扫描电镜表征 | 第41页 |
·小结 | 第41-43页 |
第5章 印迹材料吸附性能的研究 | 第43-65页 |
·初始条件对印迹聚合物Pb~(2+)吸附容量的影响 | 第43-49页 |
·初始pH对印迹聚合物Pb~(2+)吸附容量的影响 | 第43-45页 |
·吸附材料用量对吸附容量的影响 | 第45-46页 |
·温度对吸附过程的影响 | 第46-48页 |
·初始浓度对吸附过程的影响 | 第48-49页 |
·吸附剂对金属离子的选择性能 | 第49-54页 |
·IIP-Sal/SiO_2和NIIP-Sal/SiO_2对混合离子的选择性能 | 第50页 |
·IIP-PA/SiO_2和NIIP-PA/SiO_2对混合离子的选择性能 | 第50-51页 |
·IIP-MBAA/SiO_2和NIIP-MBAA/SiO_2对混合离子的选择性能 | 第51页 |
·Scatchard曲线分析 | 第51-54页 |
·印迹材料对Pb~(2+)的吸附热力学 | 第54-58页 |
·IIP-Sal/SiO_2对Pb~(2+)的吸附热力学 | 第54-55页 |
·IIP-PA/SiO_2对Pb~(2+)的吸附热力学 | 第55-56页 |
·IIP-MBAA/SiO_2对Pb~(2+)的吸附热力学 | 第56-58页 |
·印迹材料的吸附动力学 | 第58-62页 |
·IIP-Sal/SiO_2的吸附动力学研究 | 第59-60页 |
·IIP-PA/SiO_2的吸附动力学研究 | 第60-61页 |
·IIP-MBAA/SiO_2的吸附动力学研究 | 第61-62页 |
·印迹材料的循环再生性能 | 第62-63页 |
·小结 | 第63-65页 |
第6章 结论 | 第65-67页 |
参考文献 | 第67-75页 |
致谢 | 第75页 |