| 致谢 | 第1-8页 |
| 摘要 | 第8-9页 |
| Abstract | 第9-14页 |
| 1 绪论 | 第14-29页 |
| ·植物铜毒害及耐性机制研究现状 | 第14-18页 |
| ·铜对植物的毒害作用 | 第14-16页 |
| ·植物对铜的耐性机制 | 第16-18页 |
| ·高等植物根尖边缘细胞研究现状 | 第18-22页 |
| ·边缘细胞的发育 | 第19页 |
| ·边缘细胞的形状、大小、数量及活性 | 第19-20页 |
| ·边缘细胞的粘液层及其成分 | 第20页 |
| ·边缘细胞的生物学功能 | 第20-22页 |
| ·高等植物细胞程序性死亡研究现状 | 第22-26页 |
| ·高等植物细胞程序性死亡的生物学特征 | 第23页 |
| ·高等植物细胞凋亡的信号传导途径 | 第23-25页 |
| ·高等植物细胞凋亡的研究方法 | 第25-26页 |
| ·展望 | 第26页 |
| ·研究内容及技术路线 | 第26-29页 |
| ·研究背景 | 第26-27页 |
| ·研究内容 | 第27-28页 |
| ·技术路线 | 第28-29页 |
| 2 黄瓜根尖边缘细胞与根生长的动态关系 | 第29-38页 |
| ·引言 | 第29页 |
| ·材料与方法 | 第29-32页 |
| ·种子培养与处理 | 第29-30页 |
| ·黄瓜根尖PME的提取及活性检测 | 第30-31页 |
| ·黄瓜根尖边缘细胞数目及活性测定 | 第31页 |
| ·黄瓜根尖边缘细胞的粘液层厚度测量 | 第31页 |
| ·数据处理 | 第31-32页 |
| ·结果与讨论 | 第32-37页 |
| ·黄瓜根尖边缘细胞的释放 | 第32页 |
| ·黄瓜根尖PME活性随根生长变化 | 第32-33页 |
| ·黄瓜根尖边缘细胞数目及活性随根生长的变化 | 第33-35页 |
| ·黄瓜根尖边缘细胞粘液层厚度随根生长的变化 | 第35-37页 |
| ·小结 | 第37-38页 |
| 3 黄瓜根尖边缘细胞对铜胁迫的响应 | 第38-53页 |
| ·引言 | 第38页 |
| ·材料与方法 | 第38-41页 |
| ·种子培养与处理 | 第38-39页 |
| ·黄瓜根尖PME活性测定 | 第39页 |
| ·黄瓜根尖边缘细胞数目及活性测定 | 第39页 |
| ·黄瓜根尖边缘细胞的超微结构观察 | 第39-40页 |
| ·黄瓜根尖边缘细胞粘液层厚度测量 | 第40页 |
| ·黄瓜根相对伸长率、含水量、含铜量、根尖酶活性测定 | 第40-41页 |
| ·数据处理 | 第41页 |
| ·结果与讨论 | 第41-52页 |
| ·铜胁迫对黄瓜根尖PME活性的影响 | 第41-42页 |
| ·铜胁迫对黄瓜根尖边缘细胞数目及活性的影响 | 第42-44页 |
| ·铜胁迫对黄瓜根尖边缘细胞超微结构的影响 | 第44-45页 |
| ·铜胁迫对黄瓜根尖边缘细胞粘液层厚度的影响 | 第45-46页 |
| ·铜胁迫下黄瓜根尖边缘细胞的生物学功能 | 第46-52页 |
| ·小结 | 第52-53页 |
| 4 铜诱导黄瓜根尖边缘细胞程序性死亡 | 第53-66页 |
| ·引言 | 第53-54页 |
| ·材料与方法 | 第54-57页 |
| ·种子培养与处理 | 第54页 |
| ·黄瓜根尖边缘细胞程序性死亡形态观察 | 第54-55页 |
| ·黄瓜根尖边缘细胞ROS水平检测 | 第55页 |
| ·黄瓜根尖边缘细胞线粒体膜电位(去极化)检测 | 第55-56页 |
| ·黄瓜根尖边缘细胞类caspase 3活性检测 | 第56-57页 |
| ·数据处理 | 第57页 |
| ·结果与讨论 | 第57-65页 |
| ·铜诱导黄瓜根尖边缘细胞程序性死亡 | 第57-59页 |
| ·铜诱导黄瓜根尖边缘细胞产生ROS | 第59-61页 |
| ·铜诱导黄瓜根尖边缘细胞线粒体膜电位下降 | 第61-63页 |
| ·铜诱导黄瓜根尖边缘细胞的类caspase蛋白酶活性 | 第63-65页 |
| ·小结 | 第65-66页 |
| 5 全文研究结论及展望 | 第66-68页 |
| ·主要研究结论 | 第66-67页 |
| ·研究展望 | 第67-68页 |
| ·从分子水平研究黄瓜根尖边缘细胞重金属形态与解毒的关系 | 第67页 |
| ·确定边缘细胞粘液层组成成分及与铜的螯合机制 | 第67页 |
| ·探究半胱氨酸蛋白酶在植物细胞PCD中的作用 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-80页 |
| 作者简历 | 第80页 |
| 攻读硕士期间撰写论文及奖励 | 第80页 |
