| 摘要 | 第1-8页 |
| Abstract | 第8-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-33页 |
| ·引言 | 第10页 |
| ·铬及其化合物的物理化学性质 | 第10-11页 |
| ·铬的消费及用途 | 第11-12页 |
| ·电镀铬的发展现状 | 第12-20页 |
| ·六价铬电镀发展和现状 | 第12-14页 |
| ·三价铬电镀发展和研究现状 | 第14-20页 |
| ·离子液体简介 | 第20-31页 |
| ·离子液体的定义 | 第20页 |
| ·离子液体的分类 | 第20页 |
| ·离子液体的性质 | 第20-24页 |
| ·离子液体的应用 | 第24-31页 |
| ·本课题研究的主要内容和意义 | 第31-33页 |
| ·课题的提出 | 第31页 |
| ·主要研究内容 | 第31-33页 |
| 第二章 ChCl-CrCl_3·6H_2O体系中电沉积铬镀层工艺研究 | 第33-71页 |
| ·引言 | 第33页 |
| ·实验研究方法 | 第33-37页 |
| ·离子液体的制备 | 第33页 |
| ·实验装置 | 第33页 |
| ·实验方法及基本工艺参数 | 第33-35页 |
| ·镀层主要性能的测试与分析 | 第35-37页 |
| ·工艺条件对三价铬电沉积的影响 | 第37-66页 |
| ·电导率测定 | 第37-38页 |
| ·腐蚀对电沉积过程的影响 | 第38-40页 |
| ·单因子实验 | 第40-44页 |
| ·工艺条件对电流效率的影响 | 第44-53页 |
| ·工艺参数对镀层厚度的影响 | 第53-58页 |
| ·工艺参数对电沉积速率的影响 | 第58-63页 |
| ·工艺参数对镀层外观形貌的影响 | 第63-64页 |
| ·工艺参数对槽电压的影响 | 第64-66页 |
| ·最优工艺条件 | 第66-69页 |
| ·小结 | 第69-71页 |
| 第三章 ChCl-CrCl_3·6H_2O体系三价铬的电沉积机理研究 | 第71-104页 |
| ·引言 | 第71页 |
| ·电化学曲线的测定 | 第71页 |
| ·Cr(Ⅲ)还原的稳态极化曲线研究 | 第71-74页 |
| ·Cr(Ⅲ)还原的恒电流阶跃研究 | 第74-76页 |
| ·Cr(Ⅲ)还原的循环伏安曲线研究 | 第76-83页 |
| ·Cr(Ⅲ)还原的电化学阻抗研究 | 第83-92页 |
| ·Cr(Ⅲ)还原的双电势阶跃研究 | 第92-97页 |
| ·Cr(Ⅲ)还原的恒电位阶跃研究 | 第97-103页 |
| ·阶跃电位的选取 | 第99页 |
| ·Cr电结晶初期行为 | 第99-100页 |
| ·二维成核 | 第100-101页 |
| ·三维成核 | 第101-102页 |
| ·法向生长速度常数 | 第102-103页 |
| ·本章小结 | 第103-104页 |
| 第四章 ChCl-CrCl_3·6H_2O体系中配合物的量子化学理论研究 | 第104-126页 |
| ·计算方法基础 | 第104-115页 |
| ·密度泛函理论基础 | 第104-111页 |
| ·计算基组 | 第111-114页 |
| ·计算方法 | 第114-115页 |
| ·计算结果分析 | 第115-125页 |
| ·相关配合物的优化构型 | 第115-116页 |
| ·相关配合物振动频率 | 第116-119页 |
| ·相关配合物自然布居分析 | 第119页 |
| ·相关配合物的自然键轨道分析 | 第119-121页 |
| ·相关配合物的前线轨道 | 第121-125页 |
| ·小结 | 第125-126页 |
| 结论 | 第126-128页 |
| 致谢 | 第128-129页 |
| 参考文献 | 第129-141页 |
| 附录 | 第141-142页 |
