Ga2O3和CuO纳米材料合成及氧吸附特性研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-27页 |
| ·纳米材料介绍 | 第9-10页 |
| ·氧化镓和氧化铜的结构特点、形貌介绍 | 第10-16页 |
| ·氧化镓 | 第10-13页 |
| ·氧化铜 | 第13-16页 |
| ·研究现状以及应用举例 | 第16-25页 |
| ·氧化镓的研究现状 | 第16-23页 |
| ·氧化镓的应用 | 第23-24页 |
| ·氧化铜的应用 | 第24-25页 |
| ·论文的研究内容和意义 | 第25-27页 |
| 2 常用材料制备方法以及常用表征方法介绍 | 第27-38页 |
| ·纳米材料常用的制备方法 | 第27-30页 |
| ·本文制备氧化镓和氧化铜的方法 | 第30-33页 |
| ·常见的表征方法介绍 | 第33-38页 |
| 3 材料的制备与形貌分析 | 第38-48页 |
| ·试验中用到的试剂和设备介绍 | 第38-39页 |
| ·氧化镓纳米带的制备和表征 | 第39-46页 |
| ·实验过程 | 第39-40页 |
| ·温度对氧化镓纳米带生长的影响 | 第40-41页 |
| ·氧气流量对氧化镓纳米带表面形貌的影响 | 第41-42页 |
| ·氧化镓纳米带受时间的影响和机理研究 | 第42-44页 |
| ·样品的XRD、SEM、TEM和EDS分析 | 第44-46页 |
| ·氧化铜纳米颗粒的制备与表征 | 第46-48页 |
| 4 样品的电学特性、受氧气吸附的影响 | 第48-66页 |
| ·电极的制备过程 | 第48-49页 |
| ·氧化镓器件的制备和电学性质测试 | 第49-53页 |
| ·测试器件的制备 | 第49-50页 |
| ·Ⅰ-Ⅴ特性曲线测试 | 第50-53页 |
| ·氧化镓受氧吸附影响的电学性质的研究 | 第53-61页 |
| ·受氧吸附的影响 | 第53-59页 |
| ·受氧吸附和肖特基接触双重影响 | 第59-61页 |
| ·氧化铜电学性质的测试和表面氧吸附电学性质测试 | 第61-66页 |
| ·Ⅰ-Ⅴ特性的测量 | 第62页 |
| ·Ⅰ_Ⅴ-t 曲线曲线的测试 | 第62-63页 |
| ·不同温度下受氧吸附影响的电学性质的测试 | 第63-66页 |
| 结论 | 第66-68页 |
| 参考文献 | 第68-74页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第74-75页 |
| 致谢 | 第75-76页 |
