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化学方法制备硫族化合物纳米薄膜的研究

摘要第1-14页
ABSTRACT第14-18页
第一章 绪论第18-42页
   ·引言第18-20页
   ·热电转换原理第20-22页
     ·Seebeck效应第20页
     ·Peltier效应第20-21页
     ·Thomson效应第21-22页
   ·热电材料研究概况第22-32页
     ·块体热电材料第22-30页
       ·声子玻璃-电子晶体(PGEC)热电材料第23-26页
       ·Half-Heusler金属互化物热电材料第26页
       ·β-Zn_4Sb_3热电材料第26页
       ·Zintl相Yb_(14)MnSb_(11)热电材料第26-27页
       ·金属氧化物热电材料第27-28页
       ·硫族化合物热电材料第28-29页
       ·纳米复合多晶热电材料第29-30页
     ·低维热电材料第30-32页
   ·硫族化合物热电薄膜的甩膜共还原方法的提出第32-36页
   ·本文的主要内容与研究意义第36-37页
 参考文献第37-42页
第二章 BI,SB,TE,SE和PB薄膜制备、表征及形成机理探讨第42-64页
   ·引言第42页
   ·实验方法第42-45页
     ·前驱体溶液配制第43-44页
     ·衬底的清洗第44页
     ·甩膜第44页
     ·还原第44-45页
   ·单质Bi薄膜制备研究第45-59页
     ·水热法制备Bi"洋葱球"薄膜第45-56页
       ·实验过程第46-47页
       ·结果与讨论第47-56页
       ·结论第56页
     ·甩膜-还原法制备Bi薄膜第56-59页
   ·Sb、Te、Se和Pb薄膜制备第59-61页
   ·结论第61-62页
 参考文献第62-64页
第三章 BI_2TE_3系热电薄膜材料制备、表征及形成机理探讨第64-92页
   ·引言第64-66页
   ·实验过程第66-67页
   ·结果与分析第67-90页
     ·共还原法制备Bi_2Te_3薄膜的可行性第67-73页
     ·甩膜(还原)次数对Bi_2Te_3薄膜取向和表面形貌的影响第73-75页
     ·不同衬底上沉积Bi_2Te_3薄膜第75-84页
     ·Bi_2Te_3薄膜的微观结构表征及形成机理分析第84-90页
       ·Bi_2Te_3薄膜的TEM和HRTEM表征第88-89页
       ·Bi_2Te_3薄膜的合成机理第89-90页
   ·本章小结第90-91页
 参考文献第91-92页
第四章 SB_2TE_3系热电薄膜材料制备、表征及形成机理探讨第92-105页
   ·引言第92-93页
   ·实验过程第93-94页
   ·结果与分析第94-103页
     ·不同衬底上沉积Sb_2Te_3薄膜第94-98页
     ·Sb_2Te_3薄膜的微观结构表征第98-102页
     ·Sb_2Te_3薄膜的形成机理分析第102-103页
   ·本章小结第103-104页
 参考文献第104-105页
第五章 BI_2SE_3系热电薄膜材料制备表征及双层薄膜材料第105-121页
   ·引言第105-106页
   ·实验过程第106-107页
   ·结果与分析第107-115页
     ·不同衬底上沉积Bi_2Se_3薄膜第108-109页
     ·Bi_2Se_3薄膜的微结构表征第109-114页
     ·Bi_2Se_3薄膜的形成机理分析第114-115页
   ·双层膜结构材料的初步研究第115-119页
   ·本章小结第119-120页
 参考文献第120-121页
第六章 薄膜电学性能的测定第121-130页
   ·引言第121-122页
   ·薄膜电学性能测试第122-128页
   ·本章小结第128-129页
 参考文献第129-130页
第七章 总结与展望第130-133页
   ·论文总结第130-131页
   ·展望第131-133页
致谢第133-134页
攻读博士期间发表的论文及参与的科研项目第134-135页
学位论文评阅及答辩情况表第135页

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