| 第一章 绪论 | 第1-32页 |
| ·引言 | 第8-10页 |
| ·金刚石的结构、性质和应用 | 第10-13页 |
| ·真空微电子学和场发射显示器的发展现状 | 第13-17页 |
| ·金刚石在场发射显示器(FED)中的应用 | 第17-21页 |
| ·多孔硅的制备方法、性质及应用 | 第21-26页 |
| ·本论文的研究工作 | 第26-29页 |
| 参考文献 | 第29-32页 |
| 第二章 多孔硅衬底CVD 金刚石薄膜的生长 | 第32-59页 |
| ·引言 | 第32-33页 |
| ·CVD 金刚石薄膜的生长 | 第33-43页 |
| ·CVD 金刚石薄膜的常用鉴定手段 | 第43-44页 |
| ·多孔硅衬底CVD 金刚石薄膜的制备 | 第44-45页 |
| ·样品的扫描电子显微镜照片( SEM 图)分析 | 第45-49页 |
| 参考文献 | 第49-59页 |
| 第三章 CVD 金刚石薄膜的场致电子发射机制 | 第59-76页 |
| ·引言 | 第59-60页 |
| ·电子发射类型 | 第60-61页 |
| ·场致电子发射方程——Fowler-Nordheim 公式 | 第61-62页 |
| ·CVD 金刚石薄膜场发射性能 | 第62-64页 |
| ·金刚石薄膜的各种场发射模型 | 第64-69页 |
| ·影响CVD 金刚石薄膜场致发射的主要因素 | 第69-72页 |
| ·本章小结 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-76页 |
| 第四章 纳米晶CVD 金刚石薄膜的场致电子发射 | 第76-93页 |
| ·引言 | 第76-77页 |
| ·纳米金刚石薄膜的制备 | 第77-81页 |
| ·纳米金刚石薄膜的场电子发射 | 第81-90页 |
| 参考文献 | 第90-93页 |
| 第五章不连续CVD 金刚石薄膜的场致电子发射 | 第93-103页 |
| ·引言 | 第93-95页 |
| ·薄膜制备和结构分析 | 第95-99页 |
| ·场发射测试结果及分析 | 第99-101页 |
| 参考文献 | 第101-103页 |
| 第六章总结 | 第103-105页 |
| 致谢 | 第105页 |