软X射线透射光栅制作
| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-12页 |
| 第1章 绪论 | 第12-31页 |
| ·引言 | 第12页 |
| ·衍射光栅概述 | 第12-13页 |
| ·衍射光栅的发展 | 第12-13页 |
| ·衍射光栅的主要类型 | 第13页 |
| ·软X射线金透射光栅 | 第13-22页 |
| ·主要类型 | 第14-15页 |
| ·制作方法简介 | 第15-19页 |
| ·主要应用 | 第19-22页 |
| ·国内外研究现状 | 第22-24页 |
| ·选题意义与内容安排 | 第24-26页 |
| 参考文献 | 第26-31页 |
| 第2章 透射光栅的基本理论 | 第31-39页 |
| ·满足夫琅禾费衍射的条件 | 第32-33页 |
| ·单狭缝的夫琅禾费衍射 | 第33-34页 |
| ·透射光栅的衍射特性 | 第34-38页 |
| ·光强分布 | 第34-36页 |
| ·光栅方程 | 第36-37页 |
| ·色散 | 第37-38页 |
| 参考文献 | 第38-39页 |
| 第3章 光刻胶掩模制备工艺 | 第39-60页 |
| ·基片清洗 | 第39-41页 |
| ·制备金膜前的基片清洗 | 第39-40页 |
| ·涂胶前的基片清洗 | 第40-41页 |
| ·涂胶 | 第41页 |
| ·全息曝光 | 第41-48页 |
| ·全息曝光原理 | 第41-42页 |
| ·对光路的要求 | 第42-43页 |
| ·曝光剂量的控制 | 第43-48页 |
| ·显影 | 第48-56页 |
| ·显影截止点的选择 | 第48-55页 |
| ·对占宽比的控制 | 第55-56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-60页 |
| 第4章 光刻胶掩模图形转移工艺 | 第60-74页 |
| ·金的离子束刻蚀工艺 | 第60-66页 |
| ·原理 | 第60页 |
| ·刻蚀速率 | 第60-61页 |
| ·刻蚀终点的确定 | 第61-62页 |
| ·金再沉积的抑制与去除 | 第62-66页 |
| ·金的电镀沉积工艺 | 第66-71页 |
| ·电镀原理 | 第66页 |
| ·影响电镀金的质量的因素 | 第66-71页 |
| ·本章小结 | 第71-72页 |
| 参考文献 | 第72-74页 |
| 第5章 全息曝光中的驻波效应研究 | 第74-94页 |
| ·引言 | 第74页 |
| ·光刻胶中的光强分布 | 第74-81页 |
| ·不考虑光刻胶吸收引起的衰减 | 第75-77页 |
| ·考虑光刻胶吸收引起的衰减 | 第77-81页 |
| ·驻波的影响 | 第81-87页 |
| ·对槽形的影响 | 第81-83页 |
| ·对占宽比的影响 | 第83-84页 |
| ·对光强偏差的宽容度变小 | 第84-86页 |
| ·全息光刻中的“底膜”现象 | 第86-87页 |
| ·减弱驻波效应的方法 | 第87-90页 |
| ·显影之前烘烤 | 第88-89页 |
| ·降低基底反射率 | 第89-90页 |
| ·本章小结 | 第90-92页 |
| 参考文献 | 第92-94页 |
| 第6章 软 X射线位相型透射光栅的研制 | 第94-115页 |
| ·引言 | 第94页 |
| ·位相型透射光栅的设计 | 第94-99页 |
| ·位相型透射光栅的制作 | 第99-112页 |
| ·光栅制作工艺流程 | 第99-101页 |
| ·实验结果与讨论 | 第101-112页 |
| ·本章小结 | 第112-113页 |
| 参考文献 | 第113-115页 |
| 第7章 300nm周期自支撑金透射光栅的制作 | 第115-142页 |
| ·引言 | 第115页 |
| ·双层胶工艺制作300nm周期金透射光栅 | 第115-139页 |
| ·制作工艺流程 | 第116-117页 |
| ·实验结果及讨论 | 第117-139页 |
| ·本章小结 | 第139-141页 |
| 参考文献 | 第141-142页 |
| 第8章 透射光栅效率测量 | 第142-151页 |
| ·引言 | 第142页 |
| ·测量方法 | 第142-144页 |
| ·测量装置概述 | 第142-143页 |
| ·测量光路及方法 | 第143-144页 |
| ·透射光栅的效率 | 第144-149页 |
| ·本章小结 | 第149-150页 |
| 参考文献 | 第150-151页 |
| 第9章 论文的工作总结与展望 | 第151-154页 |
| ·论文的工作总结 | 第151-153页 |
| ·论文的主要创新点 | 第153页 |
| ·展望 | 第153-154页 |
| 在读期间发表的学术论文及研究工作 | 第154-155页 |
| 致谢 | 第155-156页 |
