基于PZT厚膜的MEMS微变形镜
| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-10页 |
| 目录 | 第10-13页 |
| 插图目录 | 第13-20页 |
| 列表目录 | 第20-21页 |
| 第1章 绪论 | 第21-43页 |
| ·自适应光学 | 第21-35页 |
| ·自适应光学技术及其发展 | 第21-23页 |
| ·自适应光学的应用 | 第23-35页 |
| ·微系统技术(MEMS)与自适应光学 | 第35-40页 |
| ·自适应光学的微型化 | 第35-36页 |
| ·MEMS微变形镜及其研究现状 | 第36-40页 |
| ·本论文的研究目标和意义 | 第40-41页 |
| ·本论文的研究内容和结构 | 第41-43页 |
| 第2章 压电微变形镜的结构设计 | 第43-66页 |
| ·压电微变形镜的理论模型 | 第43-51页 |
| ·压电物理基础 | 第43-46页 |
| ·压电微变形镜的两种结构 | 第46-47页 |
| ·压电微变形镜的理论模型 | 第47-51页 |
| ·F结构变形镜的参数优化 | 第51-56页 |
| ·电极尺寸优化 | 第51-53页 |
| ·PZT/Si厚度参数优化 | 第53-55页 |
| ·镜面厚度参数优化 | 第55-56页 |
| ·P结构变形镜的参数优化 | 第56-60页 |
| ·PZT尺寸优化 | 第56-58页 |
| ·PZT/Si厚度参数优化 | 第58-60页 |
| ·镜面厚度优化 | 第60页 |
| ·其他若干因素分析 | 第60-63页 |
| ·凸台影响 | 第60-61页 |
| ·接合层影响 | 第61-63页 |
| ·变形镜优化参数总结 | 第63-65页 |
| ·本章小结 | 第65-66页 |
| 第3章 压电微变形镜的加工技术研究 | 第66-91页 |
| ·硅基PZT厚膜的制备 | 第66-78页 |
| ·PZT陶瓷片和硅衬底的接合 | 第66-71页 |
| ·PZT陶瓷片的湿法刻蚀减薄 | 第71-74页 |
| ·PZT陶瓷的抛光 | 第74-78页 |
| ·硅基PZT厚膜的图形化 | 第78-82页 |
| ·PZT厚膜的干法刻蚀图形化 | 第78-80页 |
| ·PZT厚膜的湿法刻蚀图形化 | 第80-82页 |
| ·PZT厚膜的电学性能测试 | 第82-88页 |
| ·介电性能测试 | 第82-85页 |
| ·铁电性能测试 | 第85-86页 |
| ·压电性能测试 | 第86-88页 |
| ·压电微变形镜的加工制作 | 第88-90页 |
| ·本章小结 | 第90-91页 |
| 第4章 压电微变形镜的性能表征 | 第91-114页 |
| ·变形镜的驱动 | 第91-99页 |
| ·多通道D/A模块 | 第91-93页 |
| ·高压放大模块 | 第93-97页 |
| ·驱动源集成 | 第97-99页 |
| ·变形镜的性能表征方法 | 第99-105页 |
| ·位移量相关参数检测方法 | 第99页 |
| ·单元初始形变及镜面粗糙度检测方法 | 第99-100页 |
| ·镜面形貌检测方法 | 第100-105页 |
| ·变形镜的性能测试 | 第105-113页 |
| ·电压-位移特性测试 | 第105-107页 |
| ·重复定位精度测试 | 第107页 |
| ·形变分辨率测试 | 第107-109页 |
| ·致动器的初始形变 | 第109页 |
| ·镜面质量表征 | 第109-112页 |
| ·动态特性测试 | 第112-113页 |
| ·本章小结 | 第113-114页 |
| 第5章 压电微变形镜的形变自检测技术研究 | 第114-125页 |
| ·基于正压电效应的形变自检测原理 | 第114-115页 |
| ·形变自检测的理论分析 | 第115-119页 |
| ·实验及讨论 | 第119-123页 |
| ·本章小结 | 第123-125页 |
| 第6章 总结与展望 | 第125-128页 |
| ·总结 | 第125-126页 |
| ·本论文的主要工作及结论 | 第125-126页 |
| ·本论文的创新点 | 第126页 |
| ·展望 | 第126-128页 |
| 参考文献 | 第128-138页 |
| 在读博士期间发表的论文与取得的研究成果 | 第138-140页 |
| 致谢 | 第140-141页 |
