掺杂GdVO4晶体的生长及其光谱特征
| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-7页 |
| 第1章 绪论 | 第7-17页 |
| ·固体激光器概述 | 第7-8页 |
| ·激光晶体的发展动态 | 第8-10页 |
| ·适用于LD 抽运的激光晶体 | 第8-9页 |
| ·大功率激光晶体 | 第9页 |
| ·可调谐激光晶体 | 第9-10页 |
| ·新波段激光晶体 | 第10页 |
| ·GdVO_4 晶体及掺杂GdVO_4 晶体 | 第10-15页 |
| ·GdVO_4 晶体 | 第10-11页 |
| ·掺杂GdVO_4 晶体 | 第11-15页 |
| ·Pr~(3+)离子作为掺杂离子的应用 | 第15-16页 |
| ·Yb~(3+)离子作为掺杂离子的应用 | 第16页 |
| ·本论文主要研究内容 | 第16-17页 |
| 第2章 晶体生长 | 第17-25页 |
| ·提拉法生长技术 | 第17-18页 |
| ·晶体生长 | 第18-22页 |
| ·原料 | 第18页 |
| ·生长装置 | 第18-20页 |
| ·温场 | 第20页 |
| ·工艺参数 | 第20-21页 |
| ·生长过程 | 第21-22页 |
| ·晶体生长形貌 | 第22-23页 |
| ·晶胞参数测定 | 第23-24页 |
| ·本章小结 | 第24-25页 |
| 第3章 晶体加工及缺陷研究 | 第25-35页 |
| ·晶体加工 | 第25-29页 |
| ·退火 | 第25页 |
| ·定向 | 第25-29页 |
| ·切割 | 第29页 |
| ·抛光 | 第29页 |
| ·晶体缺陷研究 | 第29-34页 |
| ·宏观缺陷 | 第30-32页 |
| ·微观缺陷 | 第32-34页 |
| ·本章小结 | 第34-35页 |
| 第4章 晶体的光谱性质 | 第35-55页 |
| ·晶体光谱理论 | 第35-40页 |
| ·吸收光谱 | 第35-37页 |
| ·荧光光谱 | 第37页 |
| ·Judd-Ofelt 理论 | 第37-40页 |
| ·Pr:GdVO_4 晶体的光谱性质 | 第40-49页 |
| ·吸收光谱 | 第40-43页 |
| ·荧光光谱 | 第43-46页 |
| ·Pr~(3+)离子的光谱参数计算 | 第46-49页 |
| ·Yb:GdVO_4 晶体的光谱性质 | 第49-53页 |
| ·吸收光谱 | 第49-50页 |
| ·荧光光谱 | 第50-51页 |
| ·Yb~(3+)离子的光谱参数计算 | 第51-53页 |
| ·本章小结 | 第53-55页 |
| 结论 | 第55-57页 |
| 参考文献 | 第57-63页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第63-65页 |
| 致谢 | 第65页 |
