| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-11页 |
| 第1章 引言 | 第11-13页 |
| 第2章 文献综述 | 第13-27页 |
| ·影响石质文物风化蚀变的因素 | 第13-16页 |
| ·人为因素 | 第13页 |
| ·物理因素 | 第13-15页 |
| ·化学因素 | 第15页 |
| ·生物因素 | 第15-16页 |
| ·石质文物保护处理的原则和材料要求 | 第16-17页 |
| ·文物保护的原则 | 第16页 |
| ·对化学保护材料的基本要求 | 第16-17页 |
| ·石质文物保护的化学材料 | 第17-22页 |
| ·无机材料 | 第17页 |
| ·有机材料 | 第17-20页 |
| ·环氧树脂 | 第18页 |
| ·丙烯酸树脂 | 第18-19页 |
| ·有机硅树脂 | 第19页 |
| ·有机氟材料 | 第19-20页 |
| ·新型材料 | 第20-22页 |
| ·复合材料 | 第20页 |
| ·纳米材料 | 第20页 |
| ·仿生无机材料 | 第20-22页 |
| ·石质文物保护中存在的问题 | 第22-23页 |
| ·保护材料的耐候性及失效后对文物的破坏 | 第22页 |
| ·石材亲水性和保护膜的憎水性之间的矛盾 | 第22页 |
| ·可溶性盐对保护膜的破坏 | 第22-23页 |
| ·仿生合成理论基础、应用领域及研究意义 | 第23-25页 |
| ·仿生合成技术的基础理论 | 第23页 |
| ·仿生无机材料的应用领域 | 第23-25页 |
| ·仿生制备多孔材料 | 第24页 |
| ·仿生制备类生物矿物的无机材料 | 第24-25页 |
| ·仿生合成的研究意义 | 第25页 |
| ·立题思路、意义及研究的主要内容 | 第25-27页 |
| 第3章 实验部分 | 第27-34页 |
| ·实验材料及试剂 | 第27-28页 |
| ·实验仪器 | 第28页 |
| ·实验方法 | 第28-34页 |
| ·青石基片准备 | 第28-29页 |
| ·SiO_2膜的制备 | 第29-30页 |
| ·以TEOS为硅源制备SiO_2膜 | 第29页 |
| ·以Na_2SiF_6为硅源制备SiO_2膜 | 第29-30页 |
| ·膜的性能表征 | 第30-32页 |
| ·耐酸性实验 | 第30-31页 |
| ·耐污性实验 | 第31页 |
| ·耐高温、抗冻性实验 | 第31页 |
| ·吸水性、透气性实验 | 第31-32页 |
| ·亲水性实验 | 第32页 |
| ·膜的结构表征 | 第32-34页 |
| ·X射线衍射分析 | 第32页 |
| ·红外光谱分析 | 第32页 |
| ·薄膜微观形貌的表征 | 第32-34页 |
| 第4章 实验结果与讨论 | 第34-59页 |
| ·SiO_2膜的形成机理 | 第34-38页 |
| ·TEOS为硅源制备SiO_2膜的机理 | 第34-37页 |
| ·酸碱催化剂的选择 | 第34-35页 |
| ·模板剂的选择 | 第35-36页 |
| ·反应机理 | 第36-37页 |
| ·Na_2SiF_6为硅源制备SiO_2膜的机理 | 第37-38页 |
| ·促进剂的选择 | 第37页 |
| ·反应机理 | 第37-38页 |
| ·TEOS为硅源制备SiO_2膜时各因素的影响 | 第38-43页 |
| ·H_2O的用量对膜性能的影响 | 第39-40页 |
| ·无水乙醇的用量对膜性能的影响 | 第40页 |
| ·丙三醇的加入量对膜性能的影响 | 第40-41页 |
| ·氨水的加入量对膜性能的影响 | 第41-42页 |
| ·CTAB处理对成膜的性能的影响 | 第42-43页 |
| ·反应时间对成膜性能的影响 | 第43页 |
| ·Na_2SiF_6为硅源制备SiO_2膜时各因素的影响 | 第43-46页 |
| ·Na_2SiF_6的浓度对成膜性能的影响 | 第44页 |
| ·H_3BO_3的加入量对成膜性能的影响 | 第44-45页 |
| ·CTAB处理对成膜的性能的影响 | 第45页 |
| ·反应时间对成膜性能的影响 | 第45-46页 |
| ·膜的性能表征分析 | 第46-51页 |
| ·耐酸性分析 | 第46-48页 |
| ·耐污性分析 | 第48-49页 |
| ·耐候性分析 | 第49页 |
| ·亲水性、透气性分析 | 第49-51页 |
| ·膜的结构表征分析 | 第51-57页 |
| ·X射线衍射分析 | 第51-52页 |
| ·红外光谱分析 | 第52-54页 |
| ·扫描电镜分析 | 第54-57页 |
| ·膜开裂问题分析 | 第57-59页 |
| 第5章 结论 | 第59-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |
| 硕士阶段发表论文情况 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-67页 |