| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-11页 |
| 第一章 氧化铈及其复合氧化物的制备与抛光性能 | 第11-43页 |
| ·化学机械抛光的发展与应用概况 | 第11-12页 |
| ·化学机械抛光过程的材料去除机理 | 第12-19页 |
| ·工学模拟CMP过程 | 第12-13页 |
| ·CMP材料去除机理 | 第13-16页 |
| ·CMP系统过程变量及其对抛光速率和质量的影响 | 第16-19页 |
| ·CMP技术的主要研究内容和发展趋势 | 第19-23页 |
| ·硅片和介电层抛光 | 第20页 |
| ·金属工件的抛光 | 第20-21页 |
| ·氧化铈磨料的特点与应用范围的拓展 | 第21-22页 |
| ·无磨料抛光 | 第22-23页 |
| ·CMP抛光浆料 | 第23-35页 |
| ·超细粉体在液体中的分散原理 | 第23-27页 |
| ·氧化铈抛光粉及其浆料 | 第27-35页 |
| ·最新研究动态与本研究的主要目的 | 第35-43页 |
| ·研磨粒子的合成 | 第35-37页 |
| ·浆料特性与团聚控制 | 第37-39页 |
| ·界面相互作用和性能优化途径 | 第39-41页 |
| ·本研究的立项依据 | 第41-43页 |
| 第二章 铈基氧化物的丙酸铈热分解制备及其抛光性能 | 第43-70页 |
| ·前言 | 第43-44页 |
| ·实验部分 | 第44-46页 |
| ·大颗粒丙酸铈结晶的制备 | 第44-45页 |
| ·纳米CeO_2及掺杂抛光粉的制备 | 第45页 |
| ·抛光性能评价 | 第45-46页 |
| ·测试方法 | 第46页 |
| ·结果与讨论 | 第46-62页 |
| ·丙酸铈的合成 | 第46-47页 |
| ·丙酸铈的差示扫描-热重分析 | 第47-48页 |
| ·丙酸铈直接煅烧制备纳米氧化铈 | 第48-49页 |
| ·纳米氧化铈的SEM和TEM观察 | 第49-55页 |
| ·纳米CeO_2的分散悬浮性 | 第55-57页 |
| ·纳米氧化铈对玻璃抛光性能 | 第57页 |
| ·纳米氧化铈对铜片的CMP | 第57-62页 |
| ·掺硼/钛氧化铈的丙酸铈热分解制备及其抛光性能 | 第62-68页 |
| ·丙酸铈掺入硼酸后的XRD分析 | 第62-63页 |
| ·丙酸铈掺入硼酸后煅烧产物的XRD分析 | 第63页 |
| ·氧化铈粒子的SEM观察和比表面积分析 | 第63-64页 |
| ·硼酸加入后对氧化铈的抛光能力的影响 | 第64-65页 |
| ·丙酸铈晶体和硫酸钛球磨2小时后的XRD分析 | 第65-66页 |
| ·钛掺杂氧化铈的扫描电子显微镜分析 | 第66-67页 |
| ·Ce_(1-x)Ti_xO_2复合氧化物的抛光能力分析 | 第67-68页 |
| ·本章小结 | 第68-70页 |
| 第三章 共沉淀法制备Ce_(1-x)Ti_xO_2纳米氧化物及抛光性能 | 第70-83页 |
| ·前言 | 第70-71页 |
| ·实验部分 | 第71页 |
| ·纳米Ce_(1-x)Ti_xO_2粉体的制备 | 第71页 |
| ·纳米Ce_(1-x)Ti_xO_2粉体的表征和抛光性能评价 | 第71页 |
| ·结果与讨论 | 第71-81页 |
| ·陈化温度对Ce_(1-x)Ti_xO_2的影响 | 第71-73页 |
| ·陈化时间对Ce_(0.95)Ti_(0.05)O_2的影响 | 第73-75页 |
| ·料液浓度对Ce_(1-x)Ti_xO_2产品的影响 | 第75页 |
| ·Ce_(1-x)Ti_xO_2复合氧化物的XRD物相分析 | 第75-76页 |
| ·Ce_(1-x)Ti_xO_2复合氧化物的SEM分析 | 第76-80页 |
| ·Ce_(1-x)Ti_xO_2复合氧化物的抛光性能评价 | 第80-81页 |
| ·本章小结 | 第81-83页 |
| 第四章 CeO_2-ZrO_2复合氧化物的制备及协同抛光性能 | 第83-91页 |
| ·前言 | 第83页 |
| ·实验部分 | 第83-84页 |
| ·超细铈锆复合氧化物的制备 | 第83-84页 |
| ·抛光 | 第84页 |
| ·结果和讨论 | 第84-90页 |
| ·前驱体的机械化学反应法制备 | 第84-86页 |
| ·Ce/Zr物质的量之比、煅烧温度和球磨时间对铈锆复合氧化物相组成的影响 | 第86-87页 |
| ·抛光性能评价 | 第87-89页 |
| ·温度对铈锆复合氧化物的物理性能和抛光速率的影响 | 第89-90页 |
| ·本章小结 | 第90-91页 |
| 第五章 直接煅烧碳酸铈制备超细氧化铈及其抛光性能 | 第91-109页 |
| ·前言 | 第91-92页 |
| ·实验部分 | 第92-93页 |
| ·氧化铈及浆料制备 | 第92页 |
| ·沉降值的观测 | 第92页 |
| ·CeO_2抛光粉的Zeta电位和悬浮分散 | 第92页 |
| ·抛光实验 | 第92-93页 |
| ·结果与讨论 | 第93-107页 |
| ·CeO_2粉体的制备与分散 | 第93-94页 |
| ·CeO_2粉体的Zeta电位与pH值的关系 | 第94-97页 |
| ·中性条件下分散剂用量对Zeta电位的影响 | 第97-98页 |
| ·CeO_2粉体在水中的分散稳定性能 | 第98-100页 |
| ·对光学玻璃的抛光性能评价 | 第100-103页 |
| ·对硅片抛光性能 | 第103-107页 |
| ·本章小结 | 第107-109页 |
| 总结 | 第109-112页 |
| 主要结论 | 第109-110页 |
| 主要创新点 | 第110-112页 |
| 致谢 | 第112-113页 |
| 参考文献 | 第113-124页 |
| 攻读博士学位期间的研究成果 | 第124页 |
