| 中文摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-28页 |
| ·引言 | 第9-11页 |
| ·一维巨磁阻材料 | 第10-11页 |
| ·模板法合成纳米线材料 | 第11-15页 |
| ·模板合成纳米线方法及特点 | 第12页 |
| ·模板的分类和制备 | 第12-13页 |
| ·模板合成纳米线的方法的分类 | 第13-15页 |
| ·阳极氧化铝模板 | 第15-20页 |
| ·铝阳极氧化方法 | 第15-16页 |
| ·铝阳极氧化多孔膜的形成机理 | 第16-18页 |
| ·高度有序阳极氧化铝孔阵列膜的制备和研究 | 第18-20页 |
| ·电沉积制备金属纳米线 | 第20-24页 |
| ·交流电沉积 | 第20-23页 |
| ·直流电沉积 | 第23-24页 |
| ·电沉积制备多层纳米线 | 第24页 |
| ·单槽法 | 第24页 |
| ·双槽法 | 第24页 |
| ·纳米线的测量和表征 | 第24-26页 |
| ·本论文的主要工作 | 第26-28页 |
| ·AAO 模板的合成 | 第26-27页 |
| ·Al_2O_3 纳米线的制备和形成机理 | 第27页 |
| ·电沉积制备磁性纳米线 | 第27-28页 |
| 第二章 AAO 模板的制备及氧化铝纳米线的形成 | 第28-38页 |
| ·引言 | 第28页 |
| ·实验部分 | 第28-33页 |
| ·实验药品和仪器 | 第28-29页 |
| ·工艺流程 | 第29-32页 |
| ·实验装置图 | 第32-33页 |
| ·实验方法 | 第33页 |
| ·结果与讨论 | 第33-37页 |
| ·贯通多孔铝阳极氧化膜 | 第33-34页 |
| ·氧化铝纳米线的形成 | 第34-37页 |
| ·结论 | 第37-38页 |
| 第三章 交流电沉积 Ni_(79)Fe_(21) 纳米线阵列及其磁性 | 第38-50页 |
| ·引言 | 第38页 |
| ·实验部分 | 第38-41页 |
| ·实验药品和仪器 | 第38-39页 |
| ·实验方法 | 第39-41页 |
| ·结果与讨论 | 第41-48页 |
| ·AAO 模板的形貌表征 | 第41页 |
| ·镍铁合金纳米线的成分分析 | 第41-44页 |
| ·Ni_(79)Fe_(21) 合金纳米线的形貌及微观结构 | 第44-45页 |
| ·结构表征 | 第45-46页 |
| ·纳米线的磁学性质 | 第46-48页 |
| ·结论 | 第48-50页 |
| 第四章 直流电沉积Ni_(79)Ag_(21) 纳米线阵列及其磁性 | 第50-62页 |
| ·引言 | 第50-51页 |
| ·实验部分 | 第51-54页 |
| ·实验药品和仪器 | 第51-52页 |
| ·实验方法 | 第52-54页 |
| ·结果与讨论 | 第54-61页 |
| ·去除阻挡层 | 第54-55页 |
| ·沉积合金纳米线 | 第55页 |
| ·SEM 表征纳米线在模板内的生长状况 | 第55-60页 |
| ·能谱分析 | 第60页 |
| ·磁性能测试 | 第60-61页 |
| ·结论 | 第61-62页 |
| 第五章 双槽法组装金属多层纳米线阵列及其磁性 | 第62-75页 |
| ·引言 | 第62-63页 |
| ·实验部分 | 第63-66页 |
| ·实验药品和仪器 | 第63页 |
| ·实验方法 | 第63-66页 |
| ·结果与讨论 | 第66-73页 |
| ·AAO 模板的形貌表征 | 第66页 |
| ·直流电沉积NiFe/Cu 多层纳米线阵列 | 第66-70页 |
| ·交流电沉积 Ag/Co 多层纳米线阵列 | 第70-73页 |
| ·结论 | 第73-75页 |
| 第六章 结论 | 第75-76页 |
| 参考文献 | 第76-83页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第83-84页 |
| 致谢 | 第84页 |
