直流反应磁控溅射法制备p型透明导电锡锑氧化物薄膜
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 目录 | 第5-7页 |
| 第一章 前言 | 第7-9页 |
| ·研究背景 | 第7-8页 |
| ·研究目的和内容 | 第8-9页 |
| 第二章 文献综述 | 第9-28页 |
| ·n型透明导电氧化物薄膜 | 第9-14页 |
| ·n型透明导电氧化物薄膜的研究进展 | 第9-12页 |
| ·n型透明导电氧化物薄膜的应用 | 第12-14页 |
| ·p型透明导电氧化物薄膜 | 第14-27页 |
| ·p型透明导电氧化物薄膜的研究进展 | 第14-23页 |
| ·p型透明导电氧化物薄膜的制备技术 | 第23-27页 |
| ·Sb_2O_4的基本性质 | 第27-28页 |
| 第三章 p型锡锑氧化物薄膜的制备及性能表征 | 第28-39页 |
| ·实验方法及原理 | 第28-34页 |
| ·直流反应磁控溅射系统 | 第28-29页 |
| ·溅射镀膜的基本原理 | 第29-31页 |
| ·直流反应磁控溅射技术 | 第31-33页 |
| ·直流反应磁控溅射薄膜微观结构的影响因素 | 第33-34页 |
| ·薄膜的制备工艺 | 第34-36页 |
| ·薄膜制备的准备工作 | 第34页 |
| ·薄膜的制备 | 第34-36页 |
| ·薄膜性能的表征 | 第36-39页 |
| 第四章 Sn／Sb比对p型锡锑氧化物薄膜性能影响 | 第39-48页 |
| ·实验过程 | 第39页 |
| ·薄膜的制备 | 第39页 |
| ·薄膜的测试 | 第39页 |
| ·实验结果与讨论 | 第39-47页 |
| ·成分分析 | 第39-40页 |
| ·晶体结构 | 第40-42页 |
| ·光学性能 | 第42-44页 |
| ·电学性能 | 第44-47页 |
| ·结论 | 第47-48页 |
| 第五章 氧气分压比对p型锡锑氧化物薄膜性能影响 | 第48-58页 |
| ·实验过程 | 第48页 |
| ·实验结果与讨论 | 第48-57页 |
| ·晶体结构 | 第48-51页 |
| ·薄膜表面和截面形貌 | 第51-53页 |
| ·光学性能 | 第53-55页 |
| ·电学性能 | 第55-57页 |
| ·结论 | 第57-58页 |
| 第六章 热处理对p型锡锑氧化物薄膜性能的影响 | 第58-68页 |
| ·热处理温度的影响 | 第58-63页 |
| ·实验过程 | 第58页 |
| ·实验结果与讨论 | 第58-63页 |
| 1 晶体结构 | 第58-59页 |
| 2 表面形貌 | 第59-60页 |
| 3 光学性能 | 第60-61页 |
| 4 电学性能 | 第61-63页 |
| ·热处理时间影响 | 第63-67页 |
| ·实验过程 | 第63页 |
| ·实验结果与讨论 | 第63-67页 |
| 1 晶体结构 | 第63-64页 |
| 2 表面形貌 | 第64-65页 |
| 3 光学性能 | 第65-66页 |
| 4 电学性能 | 第66-67页 |
| ·结论 | 第67-68页 |
| 第七章 结论 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-76页 |
| 攻读硕士期间发表的论文 | 第76-77页 |
| 致谢 | 第77页 |
