| 中文摘要 | 第1-5页 |
| 英文摘要 | 第5-8页 |
| 目录 | 第8-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-19页 |
| ·引言 | 第11页 |
| ·表面工程的发展历程 | 第11-14页 |
| ·纳米多层膜的研究背景和应用前景 | 第14-16页 |
| ·薄膜的应用及制备 | 第16页 |
| ·本文的研究背景和意义 | 第16-18页 |
| ·本文的研究内容 | 第18-19页 |
| 第二章 磁控溅射镀膜基本原理 | 第19-27页 |
| ·溅射现象及机理 | 第19-21页 |
| ·离子轰击固体表面所引起的各种效应 | 第19-20页 |
| ·溅射机理 | 第20-21页 |
| ·溅射镀膜的特点 | 第21-22页 |
| ·基本溅射镀膜类型 | 第22-27页 |
| ·直流溅射 | 第22-23页 |
| ·射频溅射 | 第23-25页 |
| ·反应溅射 | 第25页 |
| ·磁控溅射 | 第25-27页 |
| 第三章 基材预处理及实验测试方法 | 第27-35页 |
| ·基材预处理方法 | 第27页 |
| ·薄膜的结构特征测试 | 第27-30页 |
| ·X射线衍射(XRD)分析 | 第27-28页 |
| ·X射线光电子谱(XPS)分析 | 第28-29页 |
| ·俄歇电子能谱(AES)分析 | 第29-30页 |
| ·薄膜的机械性能测试方法 | 第30-35页 |
| ·薄膜的厚度测试 | 第30页 |
| ·纳米硬度测试 | 第30-33页 |
| ·薄膜与基底的结合力测试 | 第33-35页 |
| 第四章 ZrN／WN纳米多层膜的性能和结构研究 | 第35-64页 |
| ·实验设备及材料 | 第35页 |
| ·射频磁控溅射沉积ZrN／WN纳米多层薄膜的制备过程 | 第35-36页 |
| ·工艺参数对ZrN／WN薄膜结构和机械性能的影响 | 第36-52页 |
| ·Ar与N_2的比例对ZrN／WN纳米多层膜结构与机械性能的影响 | 第37-42页 |
| ·总工作气压对ZrN／WN纳米多层膜结构与机械性能的影响 | 第42-46页 |
| ·总调制周期对ZrN／WN纳米多层膜结构与机械性能的影响 | 第46-49页 |
| ·ZrN与WN调制比例对ZrN／WN纳米多层膜结构与机械性能的影响 | 第49-52页 |
| ·部分薄膜的结构特征分析 | 第52-56页 |
| ·薄膜的X射线衍射(XRD)小角衍射分析 | 第52-53页 |
| ·薄膜的扫描电子显微(SEM)分析 | 第53-54页 |
| ·薄膜的俄歇电子能谱(AES)分析 | 第54-56页 |
| ·薄膜的机械性能分析 | 第56-62页 |
| ·薄膜的厚度 | 第56页 |
| ·纳米硬度的三维压痕分析 | 第56-59页 |
| ·薄膜与基底结合力划痕试验结果分析 | 第59-62页 |
| ·本章小结 | 第62-64页 |
| 第五章 CrN／ZrN纳米多层膜的性能和结构研究 | 第64-81页 |
| ·实验设备及材料 | 第64页 |
| ·直流磁控溅射沉积CrN／ZrN纳米多层薄膜的制备过程 | 第64-65页 |
| ·工艺参数对CrN／ZrN薄膜结构和机械性能的影响 | 第65-66页 |
| ·CrN／ZrN薄膜的结构特征分析 | 第66-73页 |
| ·薄膜的X射线(XRD)分析 | 第66-68页 |
| ·薄膜的X射线光电子能谱(XPS)分析 | 第68-71页 |
| ·电子能谱(AES)分析 | 第71-73页 |
| ·薄膜的机械性能分析 | 第73-78页 |
| ·薄膜的厚度 | 第73页 |
| ·纳米硬度与残余应力分析 | 第73-76页 |
| ·薄膜与基底结合力划痕试验结果分析 | 第76-78页 |
| ·本章小结 | 第78-81页 |
| 参考文献 | 第81-87页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第87-89页 |
| 攻读硕士学位期间参加的会议 | 第89-90页 |
| 致谢 | 第90页 |
