| 郑重声明 | 第1-3页 |
| 中文摘要 | 第3-4页 |
| 英文摘要 | 第4-5页 |
| 目录 | 第5-7页 |
| 第一章 导论 | 第7-15页 |
| ·吸附的基本概念 | 第7-9页 |
| ·表面弛豫 | 第8页 |
| ·吸附能 | 第8-9页 |
| ·NO在金属上吸附的研究现状 | 第9-10页 |
| ·表面扩散的概念及Si(100)面原子扩散的研究现状 | 第10-11页 |
| ·表面研究的意义 | 第11-12页 |
| ·论文工作目的 | 第12-13页 |
| 参考文献 | 第13-15页 |
| 第二章 理论计算方法 | 第15-35页 |
| ·密度泛函理论 | 第15-20页 |
| ·Hohenberg-Kohn定理 | 第16-17页 |
| ·Kohn-Sham方程 | 第17-18页 |
| ·局域密度泛函近似(LDA) | 第18-19页 |
| ·推广梯度近似(GGA) | 第19-20页 |
| ·赝势方法 | 第20-22页 |
| ·正交平面波 | 第20-21页 |
| ·赝势 | 第21-22页 |
| ·分子动力学方法 | 第22-31页 |
| ·引言 | 第22-24页 |
| ·基本方程和算法 | 第24-27页 |
| ·相互作用势函数 | 第27-31页 |
| ·计算程序简介 | 第31-33页 |
| 参考文献 | 第33-35页 |
| 第三章 NO在Al(100)面吸附的第一性原理研究 | 第35-47页 |
| ·引言 | 第35页 |
| ·物理模型和计算参数 | 第35-37页 |
| ·计算结果和讨论 | 第37-45页 |
| ·Al(100)和NO的弛豫 | 第37-39页 |
| ·吸附后的构型 | 第39-42页 |
| ·吸附态的电子结构特性 | 第42-45页 |
| ·结论 | 第45-46页 |
| 参考文献 | 第46-47页 |
| 第四章 Si原子在Si(100)面的扩散研究 | 第47-56页 |
| ·引言 | 第47-49页 |
| ·物理模型与计算方法 | 第49页 |
| ·计算结果和讨论 | 第49-54页 |
| ·结论 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-56页 |
| 第五章 结论 | 第56-57页 |
| 发表文章 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58页 |