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蓝宝石衬底上Si3N4膜系的制备工艺与性能研究

摘要第1-4页
ABSTRACT第4-6页
目录第6-9页
第1章 绪论第9-21页
 1.1 研究背景第9-11页
 1.2 影响蓝宝石高温强度的因素第11-12页
  1.2.1 晶体取向和测试温度第11-12页
  1.2.2 应力状态第12页
  1.2.3 表面缺陷第12页
 1.3 提高蓝宝石高温强度的途径第12-14页
  1.3.1 改善表面加工状态第12页
  1.3.2 热处理方法第12-13页
  1.3.3 掺杂方法第13页
  1.3.4 加垫片第13页
  1.3.5 镀膜方法第13-14页
 1.4 氮化硅薄膜的制备方法第14-17页
  1.4.1 物理气相沉积(PVD)法第14-15页
  1.4.2 化学气相沉积(CVD)法第15-16页
  1.4.3 直接氮化法第16-17页
 1.5 氮化硅薄膜的性能第17-19页
  1.5.1 光电性能第17-18页
  1.5.2 化学稳定性和钝化性能第18页
  1.5.3 热稳定性和抗高温氧化性第18-19页
  1.5.4 力学性能第19页
 1.6 本文的主要研究内容第19-21页
第2章 膜系设计与分析第21-32页
 2.1 膜系设计的基本理论第21-26页
  2.1.1 膜系设计的一般原理第21-23页
  2.1.2 膜系评价函数第23页
  2.1.3 最优化方法第23-25页
  2.1.4 增透保护膜系设计第25-26页
 2.2 膜系设计的实现第26页
 2.3 膜系设计的结果第26-29页
 2.4 膜系结构评价第29-31页
  2.4.1 膜系敏感因子分析第29-30页
  2.4.2 膜系结构偏差分析第30-31页
 2.5 本章小结第31-32页
第3章 工艺实验方法和内容第32-47页
 3.1 射频磁控反应溅射镀膜的基本原理第32-37页
  3.1.1 溅射镀膜第32-33页
  3.1.2 射频溅射第33-34页
  3.1.3 磁控溅射第34-36页
  3.1.4 反应溅射第36-37页
 3.2 试验装置第37-38页
 3.3 基本工艺参数的选择第38-41页
  3.3.1 基本工艺参数第38-40页
  3.3.2 工艺参数的选择第40-41页
 3.4 工艺流程第41页
 3.5 薄膜的分析检测第41-46页
  3.5.1 厚度的测量第41-43页
  3.5.2 成分分析第43页
  3.5.3 结构分析第43-44页
  3.5.4 硬度的测量第44页
  3.5.5 红外光学性能的测量第44-46页
 3.6 本章小结第46-47页
第4章 实验结果与分析第47-72页
 4.1 Si_3N_4薄膜形成的工艺条件第47页
 4.2 工艺参数对沉积速率的影响规律第47-55页
  4.2.1 气体流量比对薄膜沉积速率的影响第47-51页
  4.2.2 射频功率对薄膜沉积速率的影响第51-52页
  4.2.3 靶基距对薄膜沉积速率的影响第52-53页
  4.2.4 衬底温度对薄膜沉积速率的影响第53-54页
  4.2.5 溅射气压对薄膜沉积速率的影响第54-55页
 4.3 正交试验设计分析第55-57页
 4.4 工艺参数对红外光谱的影响第57-61页
  4.4.1 溅射气压对红外光谱的影响第57-58页
  4.4.2 衬底温度对红外光谱的影响第58-59页
  4.4.3 气体流量比对红外光谱的影响第59页
  4.4.4 射频功率对红外光谱的影响第59-61页
 4.5 靶面氮化反应的分析第61-63页
 4.6 Si_3N_4薄膜的成分第63-65页
 4.7 Si_3N_4薄膜的结构第65-66页
 4.8 镀膜后蓝宝石的红外光学和力学性能第66-70页
  4.8.1 光学性能第66-68页
  4.8.2 力学性能第68-70页
 4.9 本章小结第70-72页
结论第72-73页
参考文献第73-78页
攻读硕士学位期间发表的论文第78-79页
致谢第79-80页

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