| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-21页 |
| ·巨磁电阻材料简介 | 第9-10页 |
| ·巨磁电阻材料研究进展 | 第10-18页 |
| ·巨磁电阻的物理描述 | 第10页 |
| ·磁电阻效应分类 | 第10-11页 |
| ·巨磁电阻材料 | 第11-12页 |
| ·稀土锰氧化物的物理性质 | 第12-18页 |
| ·晶体结构 | 第12-13页 |
| ·磁性及电子结构 | 第13-16页 |
| ·电磁特性 | 第16-17页 |
| ·钙钛矿锰氧化物的其它物理性质 | 第17-18页 |
| ·稀土锰氧化物薄膜制备方法 | 第18-19页 |
| ·本文研究目的和意义 | 第19-21页 |
| 第2章 LSMO 薄膜样品的制备及表征 | 第21-35页 |
| ·射频磁控溅射制备方法 | 第21-29页 |
| ·射频辉光放电 | 第21-22页 |
| ·射频磁控溅射原理 | 第22-23页 |
| ·溅射特性 | 第23-27页 |
| ·溅射机理 | 第27页 |
| ·溅射过程 | 第27-29页 |
| ·磁控溅射的特点 | 第29页 |
| ·实验磁控溅射设备及操作步骤 | 第29-30页 |
| ·射频磁控溅射系统组成 | 第29-30页 |
| ·磁控溅射方法制备薄膜的实验步骤 | 第30页 |
| ·LSMO 薄膜样品的制备 | 第30-32页 |
| ·衬底的清洗方法 | 第30-31页 |
| ·LSMO 薄膜样品的制备 | 第31-32页 |
| ·样品的测试与分析方法 | 第32-34页 |
| ·样品的厚度测量 | 第32页 |
| ·样品的结构分析 | 第32-33页 |
| ·样品的成分和界面分析 | 第33-34页 |
| ·振动样品磁强计 | 第34页 |
| ·本章小结 | 第34-35页 |
| 第3章 La_0.5Sr_0.5MnO_3 薄膜的结构及磁学性能研究 | 第35-57页 |
| ·引言 | 第35页 |
| ·样品的制备 | 第35-37页 |
| ·实验结果与讨论 | 第37-55页 |
| ·工艺参数对La_0.5Sr_0.5MnO_3 薄膜结构和沉积速率的影响 | 第37-43页 |
| ·La_0.5Sr_0.5MnO_3 薄膜的XPS 分析 | 第43-45页 |
| ·La_0.5Sr_0.5MnO_3 薄膜的AFM 分析 | 第45页 |
| ·La_0.5Sr_0.5MnO_3 薄膜的磁学性能分析 | 第45-55页 |
| ·样品的M~T分析 | 第46-51页 |
| ·样品的M~H 磁致回线分析 | 第51-53页 |
| ·样品的磁学性能机制讨论 | 第53-55页 |
| ·本章小结 | 第55-57页 |
| 第4章 硅基LSMO 单层膜以及不同缓冲层下LSMO 薄膜的取向生长 | 第57-81页 |
| ·引言 | 第57页 |
| ·样品制备 | 第57-58页 |
| ·磁控溅射法制备Si 衬底上LSMO 单层膜 | 第57页 |
| ·不同成分下LSMO 薄膜的制备 | 第57-58页 |
| ·SMO 和SrO 缓冲层下LSMO薄膜的制备 | 第58页 |
| ·实验结果与讨论 | 第58-79页 |
| ·工艺参数对LSMO 单层薄膜结构和沉积速率的影响 | 第58-68页 |
| ·工艺参数对SMO单层薄膜结构的影响 | 第68-72页 |
| ·SrO、SMO 缓冲层下LSMO 薄膜的取向生长 | 第72-79页 |
| ·SrO 缓冲层对LSMO薄膜结构的影响 | 第72-73页 |
| ·SMO缓冲层对LSMO薄膜结构的影响 | 第73-79页 |
| ·本章小结 | 第79-81页 |
| 结论 | 第81-83页 |
| 参考文献 | 第83-89页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第89-91页 |
| 致谢 | 第91页 |
