摘要 | 第1-4页 |
ABSTRACT | 第4-8页 |
1 绪论 | 第8-20页 |
·碳化硅(SiC)陶瓷材料 | 第8页 |
·生物质碳化硅陶瓷材料 | 第8-9页 |
·生物质碳化硅陶瓷的制备 | 第9-14页 |
·陶瓷素坯成型工艺 | 第11-12页 |
·陶瓷的烧结工艺 | 第12-13页 |
·生物质碳化硅陶瓷的组成与性能 | 第13-14页 |
·生物质碳化硅陶瓷研究现状 | 第14-17页 |
·国外研究现状 | 第14-16页 |
·国内研究现状 | 第16-17页 |
·生物质碳化硅陶瓷研究中存在的问题 | 第17页 |
·素坯原料选择的局限性 | 第17页 |
·传统反应烧结工艺的不足 | 第17页 |
·今后研究重点 | 第17-18页 |
·论文研究思路与内容 | 第18-20页 |
·论文思路 | 第18页 |
·研究内容 | 第18-20页 |
2 干压成型法制备纯炭坯体 | 第20-40页 |
·引言 | 第20页 |
·实验原料的选择 | 第20-22页 |
·实验材料和设备 | 第22页 |
·实验材料 | 第22页 |
·实验设备 | 第22页 |
·纯炭坯体制备的实验方法 | 第22-29页 |
·干压成型法 | 第22-25页 |
·成型造粒控制 | 第23页 |
·成型压力损失及密度分布 | 第23-24页 |
·坯体的脱模及缺陷控制 | 第24-25页 |
·成型模具的设计 | 第25-26页 |
·干压成型制备纯炭坯体 | 第26-29页 |
·炭粉灰分含量测定 | 第26-27页 |
·原料预处理 | 第27-28页 |
·纯炭坯体制备工艺设计 | 第28-29页 |
·纯炭坯体检测与分析 | 第29页 |
·实验结果与分析 | 第29-39页 |
·粉料显微结构 | 第29-30页 |
·炭粉粒度 | 第30-31页 |
·纯炭坯体密度与压力的关系 | 第31-33页 |
·纯炭坯体的截面密度分析 | 第33-34页 |
·纯炭坯体不同部位密度一致性测试 | 第34-35页 |
·纯炭坯体的显微结构 | 第35-37页 |
·纯炭坯体的孔隙结构分析 | 第37-39页 |
·小结 | 第39-40页 |
3 反应烧结法制备SiC陶瓷 | 第40-46页 |
·引言 | 第40页 |
·实验原料 | 第40页 |
·设备与仪器 | 第40页 |
·反应渗硅实验 | 第40-44页 |
·液相渗硅反应温度的确定 | 第41-42页 |
·加硅量的计算 | 第42-43页 |
·真空度的确定 | 第43-44页 |
·小结 | 第44-46页 |
4 汉麻秆碳化硅陶瓷的组分、显微结构及力学性能分析 | 第46-58页 |
·引言 | 第46页 |
·设备与仪器 | 第46页 |
·陶瓷密度 | 第46-50页 |
·陶瓷实际密度测试 | 第46-47页 |
·陶瓷理论密度 | 第47页 |
·陶瓷实测密度与理论密度的关系 | 第47-50页 |
·陶瓷组分及结构分析 | 第50-51页 |
·陶瓷组分分析 | 第50页 |
·陶瓷显微结构分析 | 第50-51页 |
·汉麻秆碳化硅陶瓷力学性能分析 | 第51-55页 |
·维氏硬度 | 第51页 |
·弯曲强度 | 第51页 |
·弹性模量 | 第51页 |
·断裂韧性 | 第51-52页 |
·陶瓷力学性能测试结果与分析 | 第52-55页 |
·汉麻秆碳化硅陶瓷力学性能与国际产品对比 | 第55页 |
·小结 | 第55-58页 |
5 结论和建议 | 第58-60页 |
·结论 | 第58页 |
·创新点 | 第58页 |
·对今后研究的建议 | 第58-60页 |
参考文献 | 第60-64页 |
个人简介 | 第64-65页 |
导师简介 | 第65-66页 |
导师简介 | 第66-67页 |
获得成果目录清单 | 第67-68页 |
致谢 | 第68页 |