| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-10页 |
| 目录 | 第10-14页 |
| 第一章 绪论 | 第14-39页 |
| ·热镀锌 | 第14-15页 |
| ·铬酸盐钝化 | 第15-18页 |
| ·六价铬钝化 | 第15-16页 |
| ·三价铬钝化 | 第16-18页 |
| ·无铬钝化 | 第18-27页 |
| ·钼酸盐、磷/钼酸盐钝化处理 | 第18-19页 |
| ·硅酸盐钝化处理 | 第19页 |
| ·稀土盐钝化处理 | 第19-21页 |
| ·钨酸盐、钛、锆、铪系钝化处理 | 第21页 |
| ·有机酸钝化处理 | 第21-22页 |
| ·硅烷钝化处理 | 第22-26页 |
| ·有机钼酸盐钝化处理 | 第26页 |
| ·树脂基无机掺杂钝化处理 | 第26-27页 |
| ·镀锌层无铬钝化技术的意义及存在问题 | 第27-28页 |
| ·本论文研究的目的和研究内容 | 第28-29页 |
| 参考文献 | 第29-39页 |
| 第二章 实验材料和实验方法 | 第39-48页 |
| ·实验材料 | 第39页 |
| ·实验原材料 | 第39页 |
| ·实验用仪器及设备 | 第39页 |
| ·实验过程 | 第39-41页 |
| ·脱脂 | 第39页 |
| ·预处理 | 第39-41页 |
| ·处理液的研制 | 第41-42页 |
| ·单硅烷体系处理液的研制 | 第41-42页 |
| ·混合硅烷体系处理液的研制 | 第42页 |
| ·预处理工艺参数的确定 | 第42-43页 |
| ·硅烷涂层的性能测试 | 第43-46页 |
| ·硅烷涂层的表征 | 第43-44页 |
| ·硅烷涂层耐蚀性能测试 | 第44-46页 |
| ·硅烷涂层附着力试验 | 第46-47页 |
| ·硅烷涂层与基体附着力试验 | 第46页 |
| ·硅烷涂层与底漆的附着力试验 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-48页 |
| 第三章 单硅烷体系各组分对涂层性能影响 | 第48-74页 |
| ·硅烷(SA)试剂的选择及用量确定 | 第48-53页 |
| ·硅烷(SA)试剂的选择 | 第48-49页 |
| ·硅烷BTESPT试剂的水解 | 第49-50页 |
| ·硅烷BTESP试剂水解的红外光谱分析(FTIR) | 第50-51页 |
| ·硅烷BTESPT试剂浓度变化对耐蚀性的影响 | 第51-53页 |
| ·溶剂的选择 | 第53-54页 |
| ·水量的确定 | 第54-57页 |
| ·PH调节剂的选择及确定 | 第57-60页 |
| ·pH调节剂的选择 | 第57-58页 |
| ·硅烷BTESPT处理液pH调节剂用量的确定 | 第58-60页 |
| ·硅烷BTESPT处理液中各组分的优化 | 第60-66页 |
| ·优化配方的确定 | 第60-63页 |
| ·硅烷BTESPT处理液的稳定性研究 | 第63-66页 |
| ·硅烷G-APS涂层性能的简单研究 | 第66-70页 |
| ·γ-APS处理液的配制及涂层的制备 | 第66页 |
| ·γ-APS硅烷膜的表征 | 第66-67页 |
| ·γ-APS涂层的耐蚀性能研究 | 第67-68页 |
| ·γ-APS硅烷膜的XPS分析 | 第68-70页 |
| ·本章小结 | 第70-72页 |
| 参考文献 | 第72-74页 |
| 第四章 不同添加剂对硅烷涂层耐蚀性的影响 | 第74-97页 |
| ·稀土盐类掺杂剂 | 第74-82页 |
| ·硝酸铈对涂层性能的影响 | 第75-76页 |
| ·硝酸镧对涂层性能的影响 | 第76-78页 |
| ·稀土硝酸盐对涂层性能的比较研究 | 第78-79页 |
| ·硝酸铈掺杂BTESPT硅烷膜的表征 | 第79-81页 |
| ·硝酸铈掺杂处理耐蚀机理 | 第81-82页 |
| ·纳米级氧化物类掺杂 | 第82-89页 |
| ·纳米级氧化锆掺杂对涂层性能的影响 | 第82-84页 |
| ·纳米级氧化铝掺杂对涂层性能的影响 | 第84-86页 |
| ·硅溶胶掺杂对涂层性能的影响 | 第86-87页 |
| ·纳米级氧化锆、硅溶胶耐蚀性对比研究 | 第87-89页 |
| ·硅溶胶改性BTESPT涂层耐蚀机制研究 | 第89页 |
| ·缓蚀添加剂 | 第89-93页 |
| ·缓蚀剂的定义、分类、缓蚀效率 | 第90-91页 |
| ·苯并三氮唑(BTA)缓蚀添加剂 | 第91-92页 |
| ·三乙醇胺(TEA)缓蚀添加剂 | 第92-93页 |
| ·本章小结 | 第93-94页 |
| 参考文献 | 第94-97页 |
| 第五章 工艺参数对硅烷涂层耐蚀性影响 | 第97-118页 |
| ·工艺参数的确定 | 第98-106页 |
| ·处理液水解时间对硅烷涂层耐蚀性影响 | 第98-100页 |
| ·处理液水解温度对硅烷涂层耐蚀性影响 | 第100-101页 |
| ·浸渍时间对硅烷涂层耐蚀性影响 | 第101页 |
| ·固化对硅烷涂层耐蚀性影响 | 第101-106页 |
| ·各工艺参数的优化 | 第106-108页 |
| ·处理液性能研究 | 第108-116页 |
| ·耐蚀性对比实验 | 第109-115页 |
| ·硅烷涂层附着力初步研究 | 第115-116页 |
| ·本章小结 | 第116页 |
| 参考文献 | 第116-118页 |
| 第六章 硅烷处理成膜机理与耐蚀性 | 第118-132页 |
| ·机理概述 | 第118-121页 |
| ·钝化理论 | 第118-119页 |
| ·硅烷的作用机理 | 第119-121页 |
| ·硅烷涂层腐蚀电化学分析 | 第121-123页 |
| ·硅烷涂层的Tafel极化曲线 | 第121-122页 |
| ·硅烷涂层的电化学交流阻抗(EIS)分析 | 第122-123页 |
| ·硅烷膜FTIR分析 | 第123页 |
| ·硅烷膜XPS分析 | 第123-129页 |
| ·硅烷BTESPT处理膜的全元素扫描 | 第124-125页 |
| ·硅烷BTESPT处理膜的窄幅扫描 | 第125-129页 |
| ·硅烷涂层的耐蚀性分析 | 第129-130页 |
| ·硅烷涂层的成膜过程分析 | 第129页 |
| ·硅烷涂层的耐蚀机理分析 | 第129-130页 |
| ·本章小结 | 第130页 |
| 参考文献 | 第130-132页 |
| 第七章 混合硅烷体系各组分对处理层性能影响 | 第132-146页 |
| ·确定混合硅烷处理液组成及用量 | 第132-140页 |
| ·混合硅烷处理液的制备 | 第132页 |
| ·硅烷γ-APS用量的确定 | 第132-135页 |
| ·硅烷BTESPT用量的确定 | 第135-137页 |
| ·水用量的确定 | 第137-138页 |
| ·pH值的确定 | 第138-140页 |
| ·混合硅烷膜层的表征 | 第140-141页 |
| ·混合硅烷涂层的电化学分析 | 第141-143页 |
| ·混合硅烷膜层的XPS分析 | 第143页 |
| ·本章小结 | 第143-144页 |
| 参考文献 | 第144-146页 |
| 第八章 结论 | 第146-148页 |
| 创新说明 | 第148-149页 |
| 工作展望 | 第149-150页 |
| 攻读博士学位期间发表的论文 | 第150-151页 |
| 攻读博士学位期间申请的专利 | 第151-152页 |
| 致谢 | 第152-153页 |
| 个人简历 | 第153-154页 |