磁控溅射法制备氧化锌铝薄膜及其性能研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-27页 |
| ·太阳能电池 | 第11-13页 |
| ·太阳能电池的工作原理 | 第11-13页 |
| ·薄膜太阳能电池的发展 | 第13页 |
| ·透明导电膜的概述 | 第13-14页 |
| ·氧化物透明导电膜的分类、性质和制备 | 第14-15页 |
| ·ZnO透明导电薄膜及其掺杂体系ZAO膜的性质 | 第15-19页 |
| ·ZnO的晶体结构 | 第15-16页 |
| ·ZnO的能带结构 | 第16-17页 |
| ·ZnO材料的光电性能 | 第17-18页 |
| ·ZAO透明导电薄膜 | 第18页 |
| ·ZAO薄膜的性质 | 第18-19页 |
| ·ZAO磁控溅射靶材 | 第19-20页 |
| ·ZAO薄膜的制备方法及国内外的研究现状 | 第20-24页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第20-21页 |
| ·化学气相沉积法 | 第21页 |
| ·脉冲激光沉积法 | 第21-22页 |
| ·热喷涂沉积法 | 第22页 |
| ·磁控溅射法 | 第22-24页 |
| ·本研究的目的和意义 | 第24页 |
| ·本论文的主要工作 | 第24-27页 |
| 第二章 实验原理与设备 | 第27-37页 |
| ·ZAO靶材实验原料及设备 | 第27页 |
| ·实验原料 | 第27页 |
| ·实验设备 | 第27页 |
| ·ZAO靶材中Al_2O_3的掺入量 | 第27-28页 |
| ·靶材的成型与制作过程 | 第28-29页 |
| ·ZAO靶材性能表征 | 第29页 |
| ·激光扫描共焦显微镜分析 | 第29页 |
| ·ZAO靶材密度和气孔率的测试 | 第29页 |
| ·ZAO靶材电阻率的测试 | 第29页 |
| ·磁控溅射ZAO薄膜实验原理 | 第29-32页 |
| ·磁控溅射工作原理 | 第29-31页 |
| ·磁控溅射的温升原因及低温原理 | 第31-32页 |
| ·实验设备及原料 | 第32-33页 |
| ·实验仪器 | 第32-33页 |
| ·实验原料 | 第33页 |
| ·衬底的清洗 | 第33页 |
| ·ZAO薄膜制备 | 第33-34页 |
| ·溅射工艺参数的选择 | 第33-34页 |
| ·实验过程 | 第34页 |
| ·ZAO薄膜的性能表征 | 第34-37页 |
| ·ZAO薄膜厚度测试方法 | 第34-35页 |
| ·X射线衍射(XRD)分析 | 第35页 |
| ·薄膜的紫外-可见光谱测试 | 第35页 |
| ·扫描电镜(SEM)分析 | 第35页 |
| ·薄膜电学性能测试 | 第35-37页 |
| 第三章 ZAO靶材的制备及其结果分析 | 第37-43页 |
| ·烧结工艺对ZAO靶材结构的影响 | 第37-39页 |
| ·烧结工艺对ZAO靶材密度的影响 | 第39-40页 |
| ·烧结工艺对ZAO靶材电学性能影响 | 第40-41页 |
| ·不同成型压力的影响 | 第41-42页 |
| ·本章小结 | 第42-43页 |
| 第四章 ZAO薄膜制备及其性能研究 | 第43-53页 |
| ·衬底温度对薄膜性能的影响 | 第43-46页 |
| ·衬底温度对薄膜结构的影响 | 第43-45页 |
| ·衬底温度对薄膜电学性能的影响 | 第45-46页 |
| ·衬底温度对薄膜光学性能的影响 | 第46页 |
| ·薄膜厚度对ZAO薄膜性能的影响 | 第46-48页 |
| ·退火温度及退火时间对薄膜性能的影响 | 第48-52页 |
| ·退火温度对薄膜结构的影响 | 第48-50页 |
| ·退火温度对薄膜光电性能的影响 | 第50-51页 |
| ·退火时间对薄膜光电性能的影响 | 第51-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 第五章 结论 | 第53-55页 |
| 参考文献 | 第55-59页 |
| 致谢 | 第59页 |
