摘要 | 第1-8页 |
Abstract | 第8-11页 |
第一章 文献综述 | 第11-44页 |
·引言 | 第11-14页 |
·ZnO的结构、性能及应用 | 第14-22页 |
·ZnO的晶体结构 | 第15页 |
·ZnO的基本性质 | 第15-17页 |
·ZnO的应用 | 第17-22页 |
·ZnO材料的研究热点及进展 | 第22-26页 |
·p型ZnO薄膜的研究及进展 | 第22-25页 |
·ZnO纳米材料的研究及进展 | 第25-26页 |
·Zn_(1-x)Mg_xO的结构、性能及应用 | 第26-34页 |
·Zn_(1-x)Mg_xO的晶体结构 | 第27-29页 |
·Zn_(1-x)Mg_xO薄膜的光电特性 | 第29-30页 |
·Zn_(1-x)Mg_xO薄膜的应用 | 第30-34页 |
·Zn_(1-x)Mg_xO材料的研究热点及进展 | 第34-39页 |
·p型Zn_(1-x)Mg_xO薄膜的研究 | 第34-38页 |
·Zn_(1-x)Mg_xO纳米材料的研究 | 第38-39页 |
·选题背景、研究的内容及意义 | 第39-44页 |
·研究背景及研究内容 | 第40-41页 |
·Li掺杂实现p-Zn_(1-x)Mg_xO的可行性分析 | 第41-44页 |
第二章 Zn_(1-x)Mg_xO薄膜的p型掺杂 | 第44-95页 |
·引言 | 第44-45页 |
·实验原理、设备、工艺及性能评价 | 第45-55页 |
·脉冲激光沉积 | 第45-49页 |
·实验设备 | 第49-52页 |
·实验工艺过程 | 第52-54页 |
·性能评价 | 第54-55页 |
·单一Li掺杂的p型Zn_(1-x)Mg_xO薄膜的制备 | 第55-83页 |
·衬底温度对单一Li掺杂Zn_(0.72)Mg_(0.28)O薄膜性能的影响 | 第56-61页 |
·激光能量对单一Li掺杂Zn_(0.89)Mg_(0.11)O薄膜性能的影响 | 第61-65页 |
·靶间距对单一Li掺杂Zn_(0.89)Mg_(0.11)O薄膜表面形貌的影响 | 第65-67页 |
·靶材中的Li含量对Zn_(0.89)Mg_(0.11)O薄膜的影响 | 第67-70页 |
·氧气压强对单一Li掺杂Zn_(0.89)Mg_(0.11)O薄膜性能的影响 | 第70-76页 |
·Mg含量对单一Li掺杂Zn_(1-x)Mg_xO薄膜的影响 | 第76-83页 |
·Li-N共掺杂的p型Zn_(0.89)Mg_(0.11)O薄膜 | 第83-90页 |
·Li-N共掺杂的可行性分析 | 第83-85页 |
·N_2O气压对单一Li掺杂Zn_(0.89)Mg_(0.11)O薄膜取向性的影响 | 第85页 |
·N_2O气压对单一Li掺杂Zn_(0.89)Mg_(0.11)O薄膜电学性能的影响 | 第85-88页 |
·n-ZnO/p-Zn_(0.89)Mg_(0.11)O:(Li,N)异质结的制备 | 第88-89页 |
·小结 | 第89-90页 |
·不同掺杂方法的比较 | 第90-93页 |
·不同掺杂方法对Zn_(0.89)Mg_(0.11)O薄膜电学性能的影响 | 第90-91页 |
·不同掺杂方法对Zn_(0.89)Mg_(0.11)O薄膜成分的影响 | 第91-92页 |
·小结 | 第92-93页 |
·本章小结 | 第93-95页 |
第三章 ZnO和Zn_(1-x)Mg_xO纳米材料的制备及表征 | 第95-123页 |
·引言 | 第95页 |
·实验设备、原理及工艺 | 第95-97页 |
·热蒸发法的实验设备 | 第96页 |
·热蒸发法的原理 | 第96-97页 |
·热蒸发法的实验步骤 | 第97页 |
·ZnO微米花的制备及表征 | 第97-105页 |
·生长工艺 | 第97-98页 |
·实验结果及分析 | 第98-105页 |
·小结 | 第105页 |
·ZnO纳米棒和纳米钉的制备及表征 | 第105-112页 |
·生长工艺 | 第105-106页 |
·实验结果及分析 | 第106-112页 |
·小结 | 第112页 |
·ZnO/cubic ZnMgO异质结纳米棒 | 第112-121页 |
·生长工艺 | 第113页 |
·结果与分析 | 第113-121页 |
·小结 | 第121页 |
·本章小结 | 第121-123页 |
第四章 总结 | 第123-127页 |
·全文总结 | 第123-125页 |
·本文的主要创新点 | 第125-126页 |
·有待于深入研究的问题 | 第126-127页 |
参考文献 | 第127-140页 |
致谢 | 第140-141页 |
博士期间发表和撰写的论文 | 第141页 |