摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-9页 |
引言 | 第9-10页 |
1 文献综述 | 第10-26页 |
·钛硅分子筛TS-1概述 | 第10-12页 |
·钛硅分子筛TS-1的结构 | 第10-11页 |
·钛硅分子筛TS-1的疏水性和扩散性 | 第11-12页 |
·钛硅分子筛TS-1的酸性 | 第12页 |
·钛硅分子筛TS-1的合成 | 第12-18页 |
·钛硅分子筛TS-1的水热合成法 | 第12-15页 |
·钛硅分子筛TS-1水热合成的影响因素 | 第15-17页 |
·钛硅分子筛TS-1的二次合成法 | 第17-18页 |
·钛硅分子筛TS-1的其它合成法 | 第18页 |
·钛硅分子筛TS-1的表征方法 | 第18-21页 |
·紫外可见反射光谱(UV-Vis) | 第19页 |
·扫描/透射电子显微镜(SEM/TEM) | 第19页 |
·X射线粉末衍射(X-ray diffraction) | 第19-20页 |
·傅里叶变换红外光谱(FT-IR) | 第20页 |
·拉曼光谱(Raman) | 第20-21页 |
·X射线光电子能谱(XPS) | 第21页 |
·钛硅分子筛TS-1的应用 | 第21-25页 |
·钛硅分子筛TS-1的应用概况 | 第21-22页 |
·烯烃的环氧化 | 第22-25页 |
·选题依据 | 第25-26页 |
2 实验方法 | 第26-30页 |
·实验原料 | 第26-27页 |
·微米TS-1的合成方法 | 第27页 |
·微米TS-1的合成方法 | 第27页 |
·添加钠盐合成TS-1分子筛的研究 | 第27页 |
·硅源预处理合成TS-1分子筛的研究 | 第27页 |
·微米TS-1的表征方法 | 第27-28页 |
·X射线粉末衍射分析(XRD) | 第27-28页 |
·紫外漫反射光谱(UV-Vis) | 第28页 |
·傅里叶变换-红外光谱(FT-IR) | 第28页 |
·扫描电子显微镜(SEM) | 第28页 |
·丙烯液相环氧化探针反应 | 第28-30页 |
·反应装置及条件 | 第28页 |
·产物分析 | 第28页 |
·丙烯环氧化结果计算 | 第28-30页 |
3 廉价法中TS-1分子筛的合成及表征 | 第30-44页 |
·硅源的影响 | 第30-35页 |
·单一硅源合成TS-1分子筛 | 第30-32页 |
·混合硅源合成TS-1分子筛 | 第32-35页 |
·钛源的影响 | 第35-39页 |
·单一钛源合成TS-1分子筛 | 第35-36页 |
·混合钛源合成TS-1分子筛 | 第36-39页 |
·晶化时间和晶种用量的影响 | 第39-40页 |
·硅钛比的影响 | 第40-43页 |
·以硅溶胶JN-30为硅源合成TS-1分子筛 | 第40-41页 |
·以硅溶胶HP-20为硅源合成TS-1分子筛 | 第41-42页 |
·丙烯液相环氧化反应 | 第42-43页 |
·本章小结 | 第43-44页 |
4 添加钠盐合成TS-1分子筛的研究 | 第44-65页 |
·直接法添加钠盐合成TS-1分子筛 | 第44-51页 |
·添加硫酸钠合成TS-1分子筛 | 第44-46页 |
·添加氯化钠合成TS-1分子筛 | 第46-48页 |
·添加硝酸钠合成TS-1分子筛 | 第48-51页 |
·间接法添加钠盐合成TS-1分子筛 | 第51-63页 |
·不同酸的种类的影响 | 第51-54页 |
·不同老化时间的影响 | 第54-56页 |
·不同钛源和络合剂的影响 | 第56-59页 |
·不同硅源的影响 | 第59-61页 |
·不同硅钛比的影响 | 第61-63页 |
·钠离子作用探讨 | 第63-64页 |
·本章小结 | 第64-65页 |
5 预处理硅源合成TS-1分子筛 | 第65-69页 |
·正丁胺活化 | 第65-67页 |
·以硅球为硅源合成 | 第67-68页 |
·本章小结 | 第68-69页 |
结论 | 第69-70页 |
参考文献 | 第70-77页 |
攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第77-78页 |
致谢 | 第78-79页 |