| 中文摘要 | 第1-4页 |
| 英文摘要 | 第4-8页 |
| 1 引言 | 第8-14页 |
| ·稀释磁性半导体 | 第8-9页 |
| ·自旋电子学概述 | 第8页 |
| ·稀磁半导体研究现状 | 第8-9页 |
| ·Ge基稀磁半导体研究历史及现状 | 第9-11页 |
| ·Si基稀磁半导体研究历史及现状 | 第11-12页 |
| ·本文的选题依据与主要研究内容 | 第12-14页 |
| 2 制备态Mn_xGe_(1-x)薄膜的结构和磁输运性质 | 第14-20页 |
| ·引言 | 第14页 |
| ·薄膜的制备 | 第14-15页 |
| ·薄膜的结构、形貌与原子价态 | 第15-17页 |
| ·薄膜的磁输运性质研究 | 第17-19页 |
| ·本章总结 | 第19-20页 |
| 3 加热和退火下制备的Mn_xGe_(1-x)薄膜的铁磁性 | 第20-28页 |
| ·引言 | 第20页 |
| ·薄膜的制备 | 第20-21页 |
| ·薄膜的结构,形貌和化学状态分析 | 第21-23页 |
| ·薄膜的磁输运性质研究 | 第23-26页 |
| ·本章总结 | 第26-28页 |
| 4 Mn_xSi_(1-x)的结构和磁性 | 第28-36页 |
| ·引言 | 第28页 |
| ·薄膜的制备 | 第28-29页 |
| ·薄膜的结构、形貌和化学状态分析 | 第29-32页 |
| ·电磁学性质研究 | 第32-34页 |
| ·本章总结 | 第34-36页 |
| 5 结论 | 第36-38页 |
| 参考文献 | 第38-46页 |
| 致谢 | 第46-48页 |
| 攻读硕士学位期间取得的科研成果清单 | 第48页 |