| 中文摘要 | 第1-6页 |
| 英文摘要 | 第6-13页 |
| 符号表 | 第13-15页 |
| 1 绪论 | 第15-31页 |
| ·选题背景 | 第15页 |
| ·熔体中晶体生长技术简介 | 第15-18页 |
| ·提拉法 | 第16页 |
| ·Bridgman 法 | 第16-17页 |
| ·浮区法 | 第17-18页 |
| ·浮区法晶体生长中存在的主要问题和对策 | 第18-21页 |
| ·表面张力流和自然对流 | 第18-19页 |
| ·微重力环境 | 第19-20页 |
| ·磁场对流控制 | 第20-21页 |
| ·国内外研究现状 | 第21-27页 |
| ·浮区表面张力流 | 第21-23页 |
| ·静态磁场的对流控制 | 第23-25页 |
| ·旋转磁场的对流控制 | 第25-27页 |
| ·本文的主要工作和创新点 | 第27-31页 |
| ·本文的主要工作 | 第27-28页 |
| ·创新点 | 第28-31页 |
| 2 物理模型和数值离散 | 第31-41页 |
| ·半浮区液桥模型 | 第31-32页 |
| ·基本控制方程 | 第31-32页 |
| ·边界条件 | 第32页 |
| ·磁场作用下半浮区液桥模型 | 第32-36页 |
| ·麦克斯韦方程 | 第32-34页 |
| ·磁力体密度 | 第34页 |
| ·半浮区液桥的磁场对流控制方程 | 第34-35页 |
| ·边界条件 | 第35-36页 |
| ·有限体积法 | 第36-39页 |
| ·基本方程的通用形式 | 第36-37页 |
| ·网格单元 | 第37页 |
| ·基本方程的离散 | 第37-38页 |
| ·计算和收敛性判断 | 第38-39页 |
| ·本章小结 | 第39-41页 |
| 3 半浮区液桥表面张力流动失稳特性分析 | 第41-51页 |
| ·引言 | 第41页 |
| ·无量纲化控制方程 | 第41-42页 |
| ·程序有效性的验证 | 第42-45页 |
| ·验证1 | 第43页 |
| ·验证2 | 第43-45页 |
| ·网格收敛性验证 | 第45页 |
| ·液桥表面张力流 | 第45-50页 |
| ·第一次对流失稳 | 第46-48页 |
| ·第二次对流失稳 | 第48-50页 |
| ·本章小结 | 第50-51页 |
| 4 均匀旋转磁场对三维液桥表面张力对流的控制 | 第51-75页 |
| ·引言 | 第51-52页 |
| ·旋转磁场的对流控制机理 | 第52-53页 |
| ·均匀旋转磁场的数学物理模型 | 第53-55页 |
| ·均匀旋转磁场模型 | 第53-54页 |
| ·无量纲基本方程 | 第54-55页 |
| ·无量纲边界条件和初始条件 | 第55页 |
| ·均匀旋转磁场程序验证 | 第55-57页 |
| ·旋转磁场无限长模型和有限长Φ1-Φ2 模型的比较 | 第57-63页 |
| ·均匀旋转磁场两种模型对液桥对流结构的影响 | 第59-61页 |
| ·两种模型对液桥对流速度的影响 | 第61-63页 |
| ·均匀旋转磁场与横向静态磁场的对流控制效应的比较 | 第63-69页 |
| ·静态磁场的控制方程 | 第63-64页 |
| ·横向静态磁场与均匀旋转磁场对熔体对流速度的影响 | 第64-65页 |
| ·静态磁场与均匀旋转磁场对对流结构的影响 | 第65-69页 |
| ·均匀旋转磁场对半浮区液桥对流失稳的控制 | 第69-72页 |
| ·液桥第一次对流失稳的控制 | 第69-71页 |
| ·液桥第二次对流失稳的控制 | 第71-72页 |
| ·本章小结 | 第72-75页 |
| 5 均匀旋转磁场作用下液桥对流的稳定性分析 | 第75-97页 |
| ·引言 | 第75页 |
| ·均匀旋转磁场作用下Ma 数对熔体对流的影响 | 第75-85页 |
| ·Ma 数对熔体对流的影响 | 第75-83页 |
| ·失稳临界值的计算 | 第83-85页 |
| ·均匀旋转磁场强度对液桥表面张力的影响 | 第85-95页 |
| ·磁场强度对频率特性的影响 | 第85-88页 |
| ·磁场强度对对流振荡特性的影响 | 第88-95页 |
| ·本章小结 | 第95-97页 |
| 6 非均匀旋转磁场的对流控制 | 第97-115页 |
| ·引言 | 第97页 |
| ·二极对非均匀旋转磁场 | 第97-102页 |
| ·基本方程 | 第99-100页 |
| ·程序验证 | 第100-101页 |
| ·二极对非均匀旋转磁场的对流控制 | 第101-102页 |
| ·三极对非均匀旋转磁场 | 第102-106页 |
| ·基本方程 | 第103-104页 |
| ·三极对非均匀旋转磁场的对流控制 | 第104-106页 |
| ·均匀和非均匀旋转磁场对流控制效应的比较 | 第106-114页 |
| ·二维轴对称问题 | 第106-110页 |
| ·不同极对数的旋转磁场对三维液桥的对流控制 | 第110-114页 |
| ·本章小结 | 第114-115页 |
| 7 结论和展望 | 第115-119页 |
| ·结论 | 第115-116页 |
| ·研究展望 | 第116-119页 |
| 致谢 | 第119-121页 |
| 参考文献 | 第121-131页 |
| 附录 | 第131-132页 |
| A 作者在攻读博士学位期间发表的论文 | 第131页 |
| B 作者在攻读博士学位期间参加的国际性学术会议报告 | 第131-132页 |
| C 作者在攻读博士学位期间参加的科研项目 | 第132页 |