硬质合金刃具辉光沉积TiN涂层的工艺研究
| 摘要 | 第1-8页 |
| ABSTRACT | 第8-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-15页 |
| ·现代材料加工的发展方向 | 第10页 |
| ·国内外刀具涂层技术及其发展现状 | 第10-12页 |
| ·国内外刀具涂层的发展现状 | 第10-11页 |
| ·刀具涂层的制备技术及其性能特点 | 第11-12页 |
| ·TiN 涂层的结构性能及其应用 | 第12-13页 |
| ·本课题提出的背景、研究内容及创新点 | 第13-15页 |
| ·本课题提出的背景 | 第13-14页 |
| ·本课题的研究内容 | 第14页 |
| ·本课题的创新点 | 第14-15页 |
| 第二章 试验原理、设备及材料 | 第15-22页 |
| ·气体放电伏安特性 | 第15页 |
| ·离子渗技术及设备概述 | 第15-17页 |
| ·双层辉光离子渗金属技术的原理及设备概述 | 第17-19页 |
| ·双层辉光离子渗金属技术的原理和特点 | 第17-18页 |
| ·双层辉光离子渗金属设备 | 第18-19页 |
| ·空心阴极辉光放电的原理及应用 | 第19-20页 |
| ·空心阴极辉光放电原理 | 第19-20页 |
| ·空心阴极辉光放电的应用 | 第20页 |
| ·硬质合金刀具试样的材料性能 | 第20页 |
| ·分析测试方法 | 第20-22页 |
| 第三章 双层辉光沉积TiN 涂层的工艺研究 | 第22-32页 |
| ·硬质合金刀具试样的预处理 | 第22-23页 |
| ·材料表面预处理 | 第22页 |
| ·硬质合金刀具试样表面预处理方法 | 第22-23页 |
| ·双层辉光沉积 TiN 涂层设备设计 | 第23-25页 |
| ·双层辉光沉积TiN 涂层设备设计原理 | 第23-24页 |
| ·源极形状设计 | 第24-25页 |
| ·TiN 涂层制备过程及工艺 | 第25-27页 |
| ·制备TiN 涂层工艺 | 第25-26页 |
| ·制备TiN 涂层操作过程 | 第26页 |
| ·制备TiN 涂层试验结果 | 第26-27页 |
| ·TiN 涂层的宏观性能分析 | 第27-28页 |
| ·TiN 涂层的显微硬度分析 | 第28-31页 |
| ·显微硬度测试原理 | 第28-29页 |
| ·TiN 涂层显微硬度与载荷的关系 | 第29-30页 |
| ·工艺参数对TiN 涂层显微硬度的影响 | 第30-31页 |
| ·本章小结 | 第31-32页 |
| 第四章 TiN 涂层的XRD 及XPS 研究 | 第32-40页 |
| ·TiN 涂层的相结构与基体温度关系 | 第32-35页 |
| ·TiN 涂层的 XPS 研究 | 第35-39页 |
| ·XPS 涂层成份分析原理 | 第35-36页 |
| ·TiN 涂层成份与气压关系 | 第36-39页 |
| ·双层辉光沉积 TiN 涂层的最佳工艺参数 | 第39页 |
| ·本章小结 | 第39-40页 |
| 第五章 空心阴极与双层辉光沉积 TiN 涂层比较 | 第40-46页 |
| ·空心阴极沉积 TiN 涂层 | 第40-42页 |
| ·空心阴极沉积TiN 涂层设备设计 | 第40-41页 |
| ·空心阴极沉积TiN 涂层的制备过程 | 第41页 |
| ·空心阴极沉积TiN 涂层的工艺参数 | 第41页 |
| ·空心阴极沉积TiN 涂层的涂层性能 | 第41-42页 |
| ·空心阴极与双层辉光沉积 TiN 涂层比较 | 第42-43页 |
| ·沉积设备比较 | 第42-43页 |
| ·工艺可控性比较 | 第43页 |
| ·涂层性能比较 | 第43页 |
| ·双层辉光沉积 TiN 涂层形成机理探讨 | 第43-45页 |
| ·源极溅射 | 第43-44页 |
| ·溅射原子在源极和工件极间的输运过程 | 第44页 |
| ·涂层形成的反应热力学分析 | 第44-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 第六章 结论及待解决的问题 | 第46-48页 |
| 参考文献 | 第48-51页 |
| 致谢 | 第51-52页 |
| 附录 A 攻读学位期间所发表的学术论文目录 | 第52页 |
