| 致谢 | 第1-5页 |
| 中文摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 1 绪论 | 第10-21页 |
| ·引言 | 第10页 |
| ·SnO_2薄膜的研究进展 | 第10-13页 |
| ·SnO_2薄膜的制备方法 | 第13-15页 |
| ·磁控溅射镀膜 | 第13-14页 |
| ·热喷涂技术 | 第14页 |
| ·化学气相沉积法(CVD) | 第14-15页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第15页 |
| ·SnO_2薄膜的结构和性能 | 第15-17页 |
| ·SnO_2薄膜的结构和性能 | 第15-16页 |
| ·FTO膜的导电机理 | 第16-17页 |
| ·透明导电薄膜的应用 | 第17-18页 |
| ·显示器件中的应用 | 第17页 |
| ·建筑玻璃领域中的应用 | 第17页 |
| ·在光电、光热、电热以及气敏器件中的应用 | 第17-18页 |
| ·其他方面的应用 | 第18页 |
| ·SiO_2薄膜的应用 | 第18-19页 |
| ·微电子领域 | 第18页 |
| ·光学领域 | 第18-19页 |
| ·其他 | 第19页 |
| ·课题研究目的和主要内容 | 第19-20页 |
| ·小结 | 第20-21页 |
| 2 溶胶-凝胶法制备FTO/SiO_2复合薄膜的原理及技术 | 第21-28页 |
| ·引言 | 第21页 |
| ·溶胶-凝胶法的原理 | 第21-23页 |
| ·溶胶-凝胶法工艺合成SiO_2的反应机理 | 第22页 |
| ·溶胶-凝胶法工艺合成SnO_2的反应机理 | 第22-23页 |
| ·溶胶-凝胶法的工艺过程 | 第23-25页 |
| ·净化 | 第23-24页 |
| ·镀膜方法 | 第24-25页 |
| ·干燥 | 第25页 |
| ·热处理 | 第25页 |
| ·溶胶的基本性质 | 第25-27页 |
| ·动力性质 | 第25-26页 |
| ·光学特性-丁达尔效应 | 第26-27页 |
| ·小结 | 第27-28页 |
| 3 溶胶-凝胶法FTO/SiO_2复合薄膜的制备及性能测试方法 | 第28-52页 |
| ·引言 | 第28页 |
| ·实验试剂与实验仪器 | 第28-29页 |
| ·实验试剂 | 第28-29页 |
| ·实验仪器 | 第29页 |
| ·溶胶-凝胶法FTO/SiO_2复合薄膜的制备工艺 | 第29-30页 |
| ·FTO/SiO_2复合薄膜制备工艺流程 | 第29-30页 |
| ·溶胶配置方案的确定 | 第30-39页 |
| ·SiO_2溶胶的配置 | 第30-34页 |
| ·FTO溶胶的配置 | 第34-38页 |
| ·薄膜典型宏观图 | 第38页 |
| ·溶胶粘度性质的影响 | 第38-39页 |
| ·薄膜制备工艺参数的确定 | 第39-41页 |
| ·基体的影响 | 第39-40页 |
| ·涂层工艺的影响 | 第40页 |
| ·热处理的影响 | 第40-41页 |
| ·实验主要步骤 | 第41-46页 |
| ·SiO_2溶胶的配置 | 第41-42页 |
| ·SnO_2溶胶的配置 | 第42-43页 |
| ·FTO溶胶的配置 | 第43页 |
| ·玻璃基体的清洗 | 第43-44页 |
| ·SiO_2薄膜的制备及热处理 | 第44-45页 |
| ·FTO薄膜的制备及热处理 | 第45-46页 |
| ·对试样进行性能表征 | 第46-51页 |
| ·薄膜附着力性能测试 | 第46-47页 |
| ·薄膜结构的表征 | 第47-49页 |
| ·薄膜光学性能表征 | 第49-50页 |
| ·薄膜电学性能表征 | 第50-51页 |
| ·小结 | 第51-52页 |
| 4 性能测试结果与讨论 | 第52-63页 |
| ·引言 | 第52页 |
| ·薄膜附着力性能测试 | 第52-53页 |
| ·玻璃基体洁净度对附着性能的影响 | 第52-53页 |
| ·薄膜厚度对附着性能的影响 | 第53页 |
| ·薄膜组成结构分析 | 第53-55页 |
| ·不同热处理温度对薄膜的影响 | 第53-55页 |
| ·薄膜表面形貌分析 | 第55-57页 |
| ·薄膜光学性能分析 | 第57-59页 |
| ·F掺杂浓度对透光率的影响 | 第57-58页 |
| ·热处理温度对透光率的影响 | 第58页 |
| ·薄膜厚度对透光率的影响 | 第58-59页 |
| ·薄膜电学性能分析 | 第59-62页 |
| ·F掺杂浓度对方块电阻的影响 | 第59-60页 |
| ·热处理温度及有无SiO_2底膜对方块电阻的影响 | 第60-61页 |
| ·薄膜厚度对方块电阻的影响 | 第61-62页 |
| ·FTO/SiO_2薄膜的化学稳定性 | 第62页 |
| ·小结 | 第62-63页 |
| 5 结论与展望 | 第63-65页 |
| ·结论 | 第63-64页 |
| ·展望 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-68页 |
| 作者简历 | 第68-70页 |
| 学位论文数据集 | 第70页 |
