| 中文摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 第一章 绪论 | 第8-20页 |
| 1.1 等离子体概述 | 第8-10页 |
| 1.1.1 等离子体简介 | 第8-9页 |
| 1.1.2 激光诱导等离子体简介 | 第9-10页 |
| 1.2 LIBS技术概述 | 第10-11页 |
| 1.3 PLD技术概述 | 第11-16页 |
| 1.3.1 脉冲激光沉积技术的背景 | 第11-13页 |
| 1.3.2 脉冲激光沉积技术的特点 | 第13-16页 |
| 1.4 TiO_2薄膜及纳米材料 | 第16-17页 |
| 1.5 选题依据和研究内容 | 第17-20页 |
| 1.5.1 课题选题依据 | 第17-18页 |
| 1.5.2 本论文研究内容 | 第18-19页 |
| 1.5.3 本论文结构安排 | 第19-20页 |
| 第二章 LIBS及PLD基本理论 | 第20-34页 |
| 2.1 激光等离子体基本理论 | 第20-24页 |
| 2.1.1 激光烧蚀过程 | 第20-21页 |
| 2.1.2 等离子体形成微观机理 | 第21-22页 |
| 2.1.3 等离子体的蒸发与膨胀 | 第22-23页 |
| 2.1.4 等离子体屏蔽效应 | 第23-24页 |
| 2.2 激光诱导击穿光谱基本理论 | 第24-28页 |
| 2.2.1 等离子体辐射光谱机制 | 第24-25页 |
| 2.2.2 等离子体分析理论模型 | 第25-26页 |
| 2.2.3 等离子体光谱诊断 | 第26-28页 |
| 2.3 飞秒脉冲激光沉积理论 | 第28-32页 |
| 2.3.1 气相粒子的吸附 | 第29-30页 |
| 2.3.2 表面扩散与凝结 | 第30-31页 |
| 2.3.3 薄膜的形成 | 第31-32页 |
| 2.4 本章小结 | 第32-34页 |
| 第三章 实验装置与方法 | 第34-42页 |
| 3.1 飞秒PLD实验装置和方法 | 第34-38页 |
| 3.1.1 实验装置 | 第34-36页 |
| 3.1.2 实验方法 | 第36-38页 |
| 3.2 LIBS实验装置和方法 | 第38-41页 |
| 3.2.1 实验装置 | 第38-39页 |
| 3.2.2 Andor-Solis软件 | 第39-40页 |
| 3.2.3 实验方法 | 第40-41页 |
| 3.3 本章小结 | 第41-42页 |
| 第四章 钛表面激光等离子体的LIBS光谱 | 第42-52页 |
| 4.1 引言 | 第42-43页 |
| 4.2 飞秒激光诱导钛等离子体光谱 | 第43-48页 |
| 4.2.1 钛表面激光等离子体时间分辨光谱 | 第43-45页 |
| 4.2.2 钛表面激光等离子体空间分辨光谱 | 第45-46页 |
| 4.2.3 钛表面激光等离子体时间-飞行谱 | 第46-48页 |
| 4.3 钛表面激光等离子体电子温度及其时间演化特性 | 第48-49页 |
| 4.4 钛表面激光等离子体电子密度与激光能量的关系 | 第49-51页 |
| 4.5 本章小结 | 第51-52页 |
| 第五章 飞秒脉冲激光沉积TiO_2薄膜研究 | 第52-66页 |
| 5.1 TiO_2薄膜的制备与表征 | 第52-57页 |
| 5.1.1 TiO_2薄膜形貌的FSEM表征 | 第52-54页 |
| 5.1.2 TiO_2薄膜的XPS分析 | 第54-57页 |
| 5.2 研究TiO_2薄膜的成膜过程 | 第57-58页 |
| 5.3 研究实验参数对TiO_2成膜的影响 | 第58-62页 |
| 5.3.1 飞秒激光能量对TiO_2成膜的影响 | 第58-60页 |
| 5.3.2 基底温度对TiO_2成膜的影响 | 第60-62页 |
| 5.4 TiO_2薄膜紫外-可见光谱分析 | 第62-64页 |
| 5.5 本章小结 | 第64-66页 |
| 总结与展望 | 第66-68页 |
| 参考文献 | 第68-74页 |
| 致谢 | 第74-75页 |
| 个人简历 | 第75页 |