| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 第一章 绪论 | 第8-21页 |
| 1.1 磁致伸缩概述 | 第8-11页 |
| 1.1.1 磁致伸缩效应 | 第8-9页 |
| 1.1.2 磁致伸缩产生机理及其唯象理论 | 第9-10页 |
| 1.1.3 磁致伸缩的量子理论 | 第10-11页 |
| 1.2 磁致伸缩材料的简介 | 第11-14页 |
| 1.2.1 磁致伸缩材料的发展过程 | 第11-12页 |
| 1.2.2 磁致伸缩材料的分类 | 第12-13页 |
| 1.2.3 磁致伸缩材料的应用 | 第13-14页 |
| 1.3 新型Fe-Ga系磁致伸缩材料的研究进展 | 第14-19页 |
| 1.3.1 Fe-Ga系磁致伸缩块体材料的发展状况 | 第15-18页 |
| 1.3.2 Fe-Ga系磁致伸缩薄膜材料的发展状况 | 第18-19页 |
| 1.4 本实验研究的目的、意义、内容及创新点 | 第19-21页 |
| 第二章 实验研究方法 | 第21-30页 |
| 2.1 靶材的选择 | 第21页 |
| 2.2 衬底的选择与处理 | 第21-22页 |
| 2.2.1 衬底的选择 | 第21页 |
| 2.2.2 衬底的预处理 | 第21-22页 |
| 2.3 薄膜的制备 | 第22-25页 |
| 2.3.1 离子束溅射沉积法的原理 | 第22-23页 |
| 2.3.2 稳恒磁场发生器 | 第23-24页 |
| 2.3.3 薄膜的制备 | 第24-25页 |
| 2.4 薄膜厚度与沉积速率计算 | 第25页 |
| 2.5 薄膜的真空退火处理 | 第25-26页 |
| 2.6 薄膜成分、结构以及杨氏模量的测试 | 第26-27页 |
| 2.6.1 薄膜成分测试 | 第26页 |
| 2.6.2 薄膜表面形貌观测 | 第26页 |
| 2.6.3 薄膜XRD测试 | 第26页 |
| 2.6.4 薄膜磁畴结构观测 | 第26-27页 |
| 2.6.5 薄膜杨氏模量的测试 | 第27页 |
| 2.7 薄膜磁性能的测定 | 第27-30页 |
| 2.7.1 软磁性能的测定 | 第27页 |
| 2.7.2 静态磁伸性能的测定 | 第27-28页 |
| 2.7.3 动态振动幅-频特性测试 | 第28-30页 |
| 第三章 Fe-Ga与Fe-Ga-TbMF表面形貌、微结构、成分、磁畴结构与杨氏模量分析 | 第30-37页 |
| 3.1 薄膜的沉积速率及厚度 | 第30页 |
| 3.2 薄膜的XRD分析 | 第30-31页 |
| 3.3 Fe-Ga-(X)MF表面形貌、成分分析 | 第31-32页 |
| 3.4 薄膜的磁畴结构分析 | 第32-35页 |
| 3.5 薄膜的杨氏模量Ef分析 | 第35-36页 |
| 3.6 本章小结 | 第36-37页 |
| 第四章 稳恒磁场环境下Fe-Ga-(X)MF的制备及性能研究 | 第37-45页 |
| 4.1 成膜时外加稳恒磁场对Fe-Ga-(X)MF软磁性能的影响 | 第37-40页 |
| 4.2 成膜时外加稳恒磁场对Fe-Ga(X) MF静态磁致伸缩性能的影响 | 第40-42页 |
| 4.3 成膜时外加稳恒磁场对Fe-Ga-(X) MF动态振动幅-频特性的影响 | 第42-44页 |
| 4.4 本章小结 | 第44-45页 |
| 第五章 真空退火对稳恒磁场环境下制备的Fe-Ga-(X) MF性能的影响 | 第45-56页 |
| 5.1 真空退火对稳恒磁场环境下制备的Fe-Ga-(X)MF软磁性能的影响 | 第45-49页 |
| 5.2 真空退火对稳恒磁场环境下制备的Fe-Ga-(X) MF静态磁致伸缩性能的影响 | 第49-53页 |
| 5.3 真空退火对稳恒磁场环境下制备的Fe-Ga-(X) MF动态振动幅-频特性的影响 | 第53-55页 |
| 5.4 本章小结 | 第55-56页 |
| 第六章 Fe-Ga-Tb MF与Fe-Ga MF磁性能的对比 | 第56-61页 |
| 6.1 Fe-Ga-Tb MF与Fe-Ga MF软磁性能的对比 | 第56-57页 |
| 6.2 Fe-Ga-Tb MF与Fe-Ga MF的静态磁致伸缩性能对比 | 第57-59页 |
| 6.3 Fe-Ga-Tb MF与Fe-Ga MF动态振动幅-频特性的对比 | 第59页 |
| 6.4 本章小结 | 第59-61页 |
| 结论 | 第61-63页 |
| 参考文献 | 第63-68页 |
| 致谢 | 第68-69页 |
| 个人简历 | 第69-70页 |
| 在学期间研究成果及发表的学术论文 | 第70页 |
