| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第1章 绪论 | 第11-23页 |
| 1.1 引言 | 第11页 |
| 1.2 硬质薄膜材料分类 | 第11-15页 |
| 1.2.1 本征硬质薄膜 | 第12-14页 |
| 1.2.2 微结构强化硬质薄膜 | 第14-15页 |
| 1.3 磁控溅射镀膜技术 | 第15-18页 |
| 1.3.1 磁控溅射镀膜简介 | 第15-16页 |
| 1.3.2 磁控溅射镀膜技的发展 | 第16-17页 |
| 1.3.3 磁控溅射镀膜技术的应用 | 第17-18页 |
| 1.4 Ti-Si-N薄膜的性能和制备方法 | 第18-21页 |
| 1.4.1 Ti-Si-N薄膜的研究进展 | 第18-19页 |
| 1.4.2 Ti-Si-N薄膜的制备方法 | 第19-21页 |
| 1.5 本课题的主要内容和研究意义 | 第21-23页 |
| 第2章 实验原理及设备 | 第23-34页 |
| 2.1 实验原理 | 第23-26页 |
| 2.1.1 溅射原子碰撞原理 | 第23-24页 |
| 2.1.2 直流辉光放电原理 | 第24-26页 |
| 2.2 薄膜的生长 | 第26-28页 |
| 2.2.1 临界核的形成 | 第26页 |
| 2.2.2 岛状物或层状物的形成 | 第26-27页 |
| 2.2.3 沟道薄膜的形成 | 第27-28页 |
| 2.2.4 连续膜的形成 | 第28页 |
| 2.3 实验设备 | 第28-29页 |
| 2.4 基片前处理 | 第29-30页 |
| 2.5 薄膜性能表征 | 第30-34页 |
| 2.5.1 显微硬度检测 | 第30页 |
| 2.5.2 XRD物相分析 | 第30-31页 |
| 2.5.3 表面形貌分析 | 第31-32页 |
| 2.5.4 透射电子显微镜 | 第32页 |
| 2.5.5 涂层附着力自动划痕仪 | 第32-33页 |
| 2.5.6 电化学测试 | 第33页 |
| 2.5.7 摩擦磨损测试 | 第33-34页 |
| 第3章 Ti-Si-N复合膜的制备与性能研究 | 第34-65页 |
| 3.1 引言 | 第34页 |
| 3.2 N2流量对薄膜结构与性能的影响 | 第34-44页 |
| 3.2.1 氮气流量对薄膜颜色的影响 | 第34-35页 |
| 3.2.2 氮气流量对薄膜晶体结构的影响 | 第35-36页 |
| 3.2.3 氮气流量对薄膜微观形貌的影响 | 第36-37页 |
| 3.2.4 氮气流量对薄膜厚度及沉积速率的影响 | 第37-38页 |
| 3.2.5 氮气流量对薄膜显微硬度的影响 | 第38-40页 |
| 3.2.6 氮气流量对薄膜结合力的影响 | 第40-43页 |
| 3.2.7 氮气流量对薄膜耐蚀性的影响 | 第43-44页 |
| 3.3 硅含量对薄膜结构性能的影响 | 第44-56页 |
| 3.3.1 各种工艺参数对薄膜中硅含量的影响 | 第45-46页 |
| 3.3.2 硅含量对薄膜晶体结构的影响 | 第46-47页 |
| 3.3.3 硅含量对薄膜微观形貌的影响 | 第47-51页 |
| 3.3.4 硅含量对薄膜显微硬度的影响 | 第51-52页 |
| 3.3.5 硅含量对薄膜结合力的影响 | 第52-54页 |
| 3.3.6 硅含量对薄膜耐磨性能的影响 | 第54-55页 |
| 3.3.7 硅含量对薄膜耐腐蚀性能的影响 | 第55-56页 |
| 3.4 溅射温度对薄膜结构性能的影响 | 第56-64页 |
| 3.4.1 溅射温度对薄膜晶体结构的影响 | 第57-58页 |
| 3.4.2 溅射温度对薄膜微观形貌的影响 | 第58-59页 |
| 3.4.3 溅射温度对薄膜显微硬度的影响 | 第59页 |
| 3.4.4 溅射温度对薄膜结合力的影响 | 第59-61页 |
| 3.4.5 溅射温度对薄膜薄膜耐磨性能的影响 | 第61-63页 |
| 3.4.6 溅射温度对薄膜耐蚀性能的影响 | 第63-64页 |
| 3.5 本章小结 | 第64-65页 |
| 第4章 Ti-Si-N/Ti纳米多层膜的制备与性能研究 | 第65-79页 |
| 4.1 前言 | 第65-66页 |
| 4.2 调制比对Ti-Si-N/Ti纳米多层膜的影响 | 第66-71页 |
| 4.2.1 调制比对多层膜晶体结构的影响 | 第67-68页 |
| 4.2.2 调制比对多层膜微观形貌的影响 | 第68-69页 |
| 4.2.3 调制比对多层膜显微硬度的影响 | 第69-70页 |
| 4.2.4 调制比对多层膜耐蚀性能的影响 | 第70-71页 |
| 4.3 调制周期对Ti-Si-N/Ti纳米多层膜的影响 | 第71-78页 |
| 4.3.1 调制周期对多层膜晶体结构的影响 | 第72页 |
| 4.3.2 调制周期对多层膜微观形貌的影响 | 第72-74页 |
| 4.3.3 调制周期对多层膜显微硬度的影响 | 第74-75页 |
| 4.3.4 调制周期对多层膜结合力的影响 | 第75-77页 |
| 4.3.5 调制周期对多层膜耐蚀性能的影响 | 第77-78页 |
| 4.4 本章小结 | 第78-79页 |
| 第5章 结论 | 第79-80页 |
| 参考文献 | 第80-85页 |
| 致谢 | 第85页 |
