| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-20页 |
| ·化学气相沉积金刚石薄膜 | 第9-14页 |
| ·金刚石薄膜的结构、性能与应用 | 第9-11页 |
| ·化学气相沉积金刚石薄膜的原理和方法 | 第11-14页 |
| ·金刚石薄膜与硬质合金粘附性的研究现状 | 第14-18页 |
| ·金刚石薄膜与硬质合金粘附性问题 | 第14-15页 |
| ·改善粘附性的研究现状 | 第15-18页 |
| ·金刚石复合薄膜的研究现状 | 第18-19页 |
| ·本论文的研究意义、思路及内容 | 第19-20页 |
| 2 实验 | 第20-33页 |
| ·实验装置 | 第20-24页 |
| ·真空系统 | 第20-22页 |
| ·配气系统 | 第22-23页 |
| ·水冷却系统 | 第23-24页 |
| ·电控系统 | 第24页 |
| ·温度测量 | 第24页 |
| ·薄膜沉积实验条件 | 第24-30页 |
| ·基体的选择与处理 | 第24-25页 |
| ·灯丝的碳化 | 第25-26页 |
| ·偏压 | 第26页 |
| ·形核 | 第26-27页 |
| ·硅化钴薄膜及碳化硅-硅化钴复合薄膜 | 第27页 |
| ·金刚石-碳化硅-硅化钴复合薄膜 | 第27-29页 |
| ·顶层金刚石薄膜 | 第29-30页 |
| ·薄膜的表征方法 | 第30-33页 |
| ·扫描电子显微分析 | 第30页 |
| ·电子探针显微分析 | 第30-31页 |
| ·X射线衍射 | 第31页 |
| ·拉曼光谱 | 第31-32页 |
| ·洛氏C压痕法 | 第32-33页 |
| 3 实验结果与分析 | 第33-57页 |
| ·基体预处理 | 第33-34页 |
| ·硅化钴薄膜及碳化硅-硅化钴复合薄膜 | 第34-36页 |
| ·四甲基硅烷浓度对金刚石-碳化硅-硅化钴复合薄膜的影响 | 第36-41页 |
| ·表面形貌 | 第36-38页 |
| ·成分 | 第38页 |
| ·结构 | 第38-41页 |
| ·偏流对金刚石-碳化硅-硅化钴复合薄膜的影响 | 第41-49页 |
| ·表面形貌 | 第41-44页 |
| ·成分 | 第44-46页 |
| ·结构 | 第46-49页 |
| ·金刚石-碳化硅-硅化钴复合薄膜的生长过程 | 第49-52页 |
| ·顶层金刚石薄膜的粘附性 | 第52-57页 |
| ·原位沉积金刚石薄膜 | 第52-53页 |
| ·碳氢处理后沉积金刚石薄膜 | 第53-57页 |
| 4 讨论 | 第57-61页 |
| ·金刚石-碳化硅-硅化钴复合薄膜的生长机制 | 第57-59页 |
| ·TMS浓度对复合薄膜生长的影响 | 第57-58页 |
| ·偏流对复合薄膜生长的影响 | 第58-59页 |
| ·硅化钴的生长 | 第59页 |
| ·金刚石-碳化硅-硅化钴复合薄膜中残余应力 | 第59-60页 |
| ·顶层金刚石薄膜的粘附性 | 第60-61页 |
| 结论 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-66页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第66-67页 |
| 致谢 | 第67-69页 |