| 摘要 | 第7-9页 |
| abstract | 第9-10页 |
| 引言 | 第11-12页 |
| 第1章 绪论 | 第12-26页 |
| 1.1 氢能与制氢技术 | 第12-13页 |
| 1.2 半导体光解水制氢机理 | 第13-16页 |
| 1.3 助催化剂的研究进展 | 第16-23页 |
| 1.3.1 影响助催化剂活性的因素 | 第16-17页 |
| 1.3.2 贵金属及其氧化物 | 第17-18页 |
| 1.3.3 过渡金属硫化物 | 第18-19页 |
| 1.3.4 其他过渡金属及其化合物 | 第19-23页 |
| 1.4 本文的选题思路 | 第23-26页 |
| 1.4.1 研究内容 | 第23-24页 |
| 1.4.2 创新点 | 第24页 |
| 1.4.3 技术路线 | 第24-26页 |
| 第2章 实验方法 | 第26-34页 |
| 2.1 实验药品 | 第26页 |
| 2.2 实验仪器设备 | 第26-27页 |
| 2.3 催化剂的表征方法及参数设置 | 第27-29页 |
| 2.3.1 X-射线衍射仪 | 第27-28页 |
| 2.3.2 透射电子显微镜 | 第28页 |
| 2.3.3 X射线光电子能谱仪 | 第28页 |
| 2.3.4 电感耦合等离子体质谱仪 | 第28页 |
| 2.3.5 紫外可见漫反射吸收光谱 | 第28-29页 |
| 2.4 催化剂的光电化学表征方法 | 第29-30页 |
| 2.4.1 工作电极制备 | 第29页 |
| 2.4.2 交流阻抗测试 | 第29-30页 |
| 2.4.3 光电流测试 | 第30页 |
| 2.5 催化剂的活性测试 | 第30-34页 |
| 2.5.1 光解水制氢系统保压测试方法 | 第30-31页 |
| 2.5.2 光解水制氢性能测试方法 | 第31-32页 |
| 2.5.3 光催化剂的产氢循环性能测试 | 第32页 |
| 2.5.4 标准曲线制作方法 | 第32-34页 |
| 第3章 镍基氢氧化物及氧化物的光解水制氢性能研究 | 第34-46页 |
| 3.1 引言 | 第34-35页 |
| 3.2 光催化剂的制备 | 第35页 |
| 3.3 结果分析与讨论 | 第35-44页 |
| 3.3.1 镍基氢氧化物及氧化物修饰的g-C_3N_4物相表征 | 第35-37页 |
| 3.3.2 镍基氢氧化物及氧化物修饰的g-C_3N_4的XPS表征 | 第37-39页 |
| 3.3.3 镍基氢氧化物及氧化物修饰的g-C_3N_4光解水制氢性能分析 | 第39-40页 |
| 3.3.4 电化学阻抗与光电流测试分析 | 第40-42页 |
| 3.3.5 镍基氢氧化物及氧化物修饰的g-C_3N_4的光吸收性质 | 第42-43页 |
| 3.3.6 镍基氢氧化物及氧化物修饰的g-C-3N_4光解水制氢机理 | 第43-44页 |
| 3.4 本章小结 | 第44-46页 |
| 第4章 硼化镍光解水制氢性能研究 | 第46-58页 |
| 4.1 引言 | 第46-47页 |
| 4.2 光催化剂的制备 | 第47页 |
| 4.3 结果分析与讨论 | 第47-55页 |
| 4.3.1 NiB_x/g-C_3N_4的物相表征分析 | 第47-48页 |
| 4.3.2 NiB_x/g-C_3N_4的XPS表征结果分析 | 第48-50页 |
| 4.3.3 NiB_x/g-C_3N-4光解水制氢性能测试结果 | 第50-51页 |
| 4.3.4 NiB_x/g-C_3N_4循环制氢性能测试 | 第51-52页 |
| 4.3.5 ICP-MS结果分析 | 第52-53页 |
| 4.3.6 电化学阻抗与光电流测试结果 | 第53-55页 |
| 4.3.7 NiB_x修饰的g-C_3N_4光解水制氢机理 | 第55页 |
| 4.4 本章小结 | 第55-58页 |
| 第5章 结论与展望 | 第58-60页 |
| 5.1 研究结论 | 第58页 |
| 5.2 研究不足与展望 | 第58-60页 |
| 参考文献 | 第60-70页 |
| 发表文章目录 | 第70-72页 |
| 致谢 | 第72-73页 |
