| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第10-19页 |
| 1.1 金属的腐蚀及防腐研究的意义 | 第10-11页 |
| 1.2 拉曼散射光谱效应 | 第11-14页 |
| 1.2.1 拉曼光谱的发展 | 第11-12页 |
| 1.2.2 拉曼光谱的原理 | 第12页 |
| 1.2.3 表面增强拉曼光谱 | 第12-14页 |
| 1.3 金属防腐蚀的方法 | 第14-15页 |
| 1.3.1 改变结构 | 第14页 |
| 1.3.2 金属保护层 | 第14页 |
| 1.3.3 非金属保护层 | 第14页 |
| 1.3.4 电化学保护法 | 第14页 |
| 1.3.5 化学保护层 | 第14-15页 |
| 1.4 自修复研究 | 第15-17页 |
| 1.5 电化学阻抗技术 | 第17页 |
| 1.6 电化学极化技术 | 第17-18页 |
| 1.7 本论文工作的研究内容与构想 | 第18-19页 |
| 1.7.1 4 ,5-二氨基-2-硫脲嘧啶(MPD)对铜缓蚀性能的研究 | 第18页 |
| 1.7.2 植酸(PA)与4-甲基-4H-3-巯基-1,2,4-三氮唑(4-MTTL)微胶囊对铜缓蚀性能的研究 | 第18页 |
| 1.7.3 PVP/PMMA同轴静电纺丝对铜缓蚀性能的研究 | 第18-19页 |
| 第二章 4,5-二氨基-2-硫脲嘧啶对铜缓蚀性能的研究 | 第19-32页 |
| 2.1 引言 | 第19-20页 |
| 2.2 实验试剂与方法 | 第20-21页 |
| 2.2.1 实验试剂 | 第20页 |
| 2.2.2 电极的预处理 | 第20页 |
| 2.2.3 MPD自组装膜的形成 | 第20页 |
| 2.2.4 电化学方法测定 | 第20-21页 |
| 2.2.5 SEM测试 | 第21页 |
| 2.2.6 原位拉曼测试 | 第21页 |
| 2.3 实验结果与讨论 | 第21-31页 |
| 2.3.1 电化学交流阻抗测试 | 第21-25页 |
| 2.3.2 电化学极化曲线测试 | 第25-27页 |
| 2.3.3 表面分析 | 第27-28页 |
| 2.3.4 拉曼光谱研究 | 第28-31页 |
| 2.4 小结 | 第31-32页 |
| 第三章 植酸与4-甲基-4H-3-巯基-1,2,4-三氮唑微胶囊对铜缓蚀性能的研究 | 第32-46页 |
| 3.1 引言 | 第32-33页 |
| 3.2 实验试剂与方法 | 第33-35页 |
| 3.2.1 实验试剂 | 第33页 |
| 3.2.2 电极的预处理 | 第33页 |
| 3.2.3 修饰性铜电极的制备 | 第33-34页 |
| 3.2.4 电化学测试 | 第34页 |
| 3.2.5 TEM测试 | 第34页 |
| 3.2.6 原位拉曼测试 | 第34页 |
| 3.2.7 自修复测试 | 第34-35页 |
| 3.3 实验结果与讨论 | 第35-45页 |
| 3.3.1 TEM结果 | 第35页 |
| 3.3.2 开路电位测试 | 第35-36页 |
| 3.3.3 电化学阻抗测试 | 第36-40页 |
| 3.3.4 电化学极化曲线测试 | 第40-42页 |
| 3.3.5 SERS分析 | 第42-43页 |
| 3.3.6 自修复测试 | 第43-45页 |
| 3.4 小结 | 第45-46页 |
| 第四章 PVP/PMMA同轴静电纺丝对铜缓蚀性能的研究 | 第46-57页 |
| 4.1 引言 | 第46-47页 |
| 4.2 实验试剂与方法 | 第47-49页 |
| 4.2.1 实验试剂 | 第47页 |
| 4.2.2 静电纺丝法 | 第47-48页 |
| 4.2.3 表征技术 | 第48页 |
| 4.2.4 电化学测试 | 第48-49页 |
| 4.2.5 自修复研究 | 第49页 |
| 4.3 实验结果与讨论 | 第49-56页 |
| 4.3.1 纤维表面形貌分析 | 第49-51页 |
| 4.3.2 核壳结构静电纺丝表征 | 第51-52页 |
| 4.3.3 接触角测试 | 第52-54页 |
| 4.3.4 电化学测试 | 第54-55页 |
| 4.3.5 自修复测试 | 第55-56页 |
| 4.4 小结 | 第56-57页 |
| 结论与展望 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-67页 |
| 攻读学位期间的科研成果 | 第67-68页 |
| 致谢 | 第68页 |
