| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-19页 |
| 1.1 课题背景及研究意义 | 第9-10页 |
| 1.2 陶瓷材料的电火花加工技术研究现状 | 第10-18页 |
| 1.2.1 导电性陶瓷材料的电火花加工技术研究现状 | 第10-13页 |
| 1.2.2 绝缘陶瓷材料的电火花加工技术研究现状 | 第13-18页 |
| 1.3 主要研究内容 | 第18-19页 |
| 第2章 氮化硅陶瓷电火花加工原理和去除方式研究 | 第19-31页 |
| 2.1 绝缘陶瓷辅助电极法电火花加工原理 | 第19-21页 |
| 2.2 脉冲放电波形的特点与分析 | 第21-24页 |
| 2.2.1 加工紫铜辅助电极时电压和电流波形 | 第21页 |
| 2.2.2 加工氮化硅陶瓷时电压和电流波形 | 第21-24页 |
| 2.3 氮化硅陶瓷电火花加工表面成分分析及去除方式分析 | 第24-30页 |
| 2.3.1 氮化硅陶瓷原始表面成分 | 第24-25页 |
| 2.3.2 氮化硅陶瓷电火花加工表面成分及去除方式分析 | 第25-30页 |
| 2.4 本章小结 | 第30-31页 |
| 第3章 氮化硅陶瓷材料单脉冲放电温度场仿真研究 | 第31-44页 |
| 3.1 单脉冲放电温度场仿真模型的建立 | 第31-35页 |
| 3.1.1 仿真中的假设条件 | 第31-32页 |
| 3.1.2 单脉冲放电时的热源分析 | 第32-34页 |
| 3.1.3 放电等离子体通道半径的计算 | 第34-35页 |
| 3.1.4 极间放电能量分配 | 第35页 |
| 3.2 氮化硅陶瓷电火花加工温度场仿真分析 | 第35-38页 |
| 3.2.1 几何模型的建立 | 第35-37页 |
| 3.2.2 材料的物性参数 | 第37页 |
| 3.2.3 热传导边界条件 | 第37-38页 |
| 3.3 仿真结果分析与讨论 | 第38-43页 |
| 3.3.1 峰值电流对材料蚀除的影响 | 第38-40页 |
| 3.3.2 脉宽对材料蚀除的影响 | 第40-42页 |
| 3.3.3 峰值电流和脉宽综合作用对材料蚀除的影响 | 第42-43页 |
| 3.4 本章小结 | 第43-44页 |
| 第4章 氮化硅陶瓷电火花加工试验研究及参数优化 | 第44-68页 |
| 4.1 试验装置及条件 | 第44-45页 |
| 4.2 氮化硅陶瓷电火花加工工艺试验研究 | 第45-56页 |
| 4.2.1 峰值电流对氮化硅陶瓷电火花加工的影响 | 第45-47页 |
| 4.2.2 脉宽氮化硅陶瓷电火花加工的影响 | 第47-48页 |
| 4.2.3 脉间对氮化硅陶瓷电火花加工的影响 | 第48-50页 |
| 4.2.4 伺服参考电压对氮化硅陶瓷电火花加工的影响 | 第50-52页 |
| 4.2.5 抬刀速度对氮化硅陶瓷电火花加工的影响 | 第52-53页 |
| 4.2.6 抬刀高度对氮化硅陶瓷电火花加工的影响 | 第53-54页 |
| 4.2.7 电极加工时间对氮化硅陶瓷电火花加工的影响 | 第54-56页 |
| 4.3 氮化硅绝缘陶瓷的电火花正交试验研究及参数优化 | 第56-66页 |
| 4.3.1 正交试验的设计 | 第56-58页 |
| 4.3.2 基于信噪比的加工工艺单目标优化 | 第58-62页 |
| 4.3.3 基于信噪比与灰关联度的加工工艺多目标优化 | 第62-66页 |
| 4.4 本章小结 | 第66-68页 |
| 结论 | 第68-69页 |
| 参考文献 | 第69-75页 |
| 致谢 | 第75页 |
