| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第9-19页 |
| 1.1 钛合金性能及应用 | 第9-11页 |
| 1.2 钛合金的应用缺陷以及表面改性技术的发展 | 第11-13页 |
| 1.3 微弧氧化技术的原理及特点 | 第13-14页 |
| 1.4 钛合金微弧氧化技术 | 第14-17页 |
| 1.4.1 钛及钛合金微弧氧化研究现状 | 第14-15页 |
| 1.4.2 影响钛合金微弧氧化的因素 | 第15-16页 |
| 1.4.3 颗粒添加剂对钛合金微弧氧化的影响 | 第16-17页 |
| 1.5 本课题研究内容 | 第17-19页 |
| 2 实验材料及方法 | 第19-23页 |
| 2.1 实验前准备 | 第19-20页 |
| 2.1.1 基体材料准备 | 第19页 |
| 2.1.2 实验用电解液制备 | 第19-20页 |
| 2.2 膜层制备 | 第20页 |
| 2.3 微弧氧化膜的检测 | 第20-23页 |
| 2.3.1 氧化膜厚度的检测 | 第20页 |
| 2.3.2 膜层物相组成检测 | 第20页 |
| 2.3.3 微弧氧化膜形貌检测 | 第20页 |
| 2.3.4 微弧氧化膜电化学腐蚀的检测 | 第20-21页 |
| 2.3.5 显微硬度测试 | 第21页 |
| 2.3.6 摩擦磨损测试 | 第21-23页 |
| 3 电解液优化 | 第23-33页 |
| 3.1 电解质氟锆酸钾含量优化及作用机理 | 第23-28页 |
| 3.1.1 不同氟锆酸钾含量下微弧氧化电压与时间的关系 | 第23-25页 |
| 3.1.2 不同氟锆酸钾含量下微弧氧化膜层的形貌分析 | 第25-27页 |
| 3.1.3 不同氟锆酸钾含量下微弧氧化膜厚度分析 | 第27-28页 |
| 3.2 六偏磷酸钠的含量优化及作用机理 | 第28-32页 |
| 3.2.1 不同六偏磷酸钠含量下微弧氧化电压与时间的关系 | 第29页 |
| 3.2.2 不同六偏磷酸钠含量下微弧氧化膜层的形貌分析 | 第29-31页 |
| 3.2.3 不同六偏磷酸钠含量下微弧氧化膜层厚度分析 | 第31-32页 |
| 3.3 本章小结 | 第32-33页 |
| 4 添加AlN颗粒的微弧氧化膜层性能分析 | 第33-45页 |
| 4.1 膜层的微观组织结构分析 | 第33-37页 |
| 4.2 膜层的相组成分析 | 第37-39页 |
| 4.3 膜层的电化学性能分析 | 第39-40页 |
| 4.4 膜层的硬度耐磨性分析 | 第40-42页 |
| 4.5 本章小结 | 第42-45页 |
| 5 添加TiC颗粒的微弧氧化膜层性能分析 | 第45-55页 |
| 5.1 膜层的微观组织结构分析 | 第45-48页 |
| 5.2 膜层的相组成分析 | 第48-50页 |
| 5.3 膜层的电化学性能分析 | 第50-51页 |
| 5.4 膜层的硬度耐磨性分析 | 第51-53页 |
| 5.5 本章小结 | 第53-55页 |
| 6 结论与展望 | 第55-57页 |
| 6.1 结论 | 第55页 |
| 6.2 展望 | 第55-57页 |
| 硕士期间参加的科研项目及科研成果 | 第57-59页 |
| 致谢 | 第59-61页 |
| 参考文献 | 第61-64页 |
