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基于BN-ZnO高声速压电材料的高频SAW器件的构建及性能研究

中文摘要第3-4页
Abstract第4-5页
第一章 绪论第9-22页
    1.1 SAW 器件及其发展现状第9-12页
        1.1.1 SAW 技术第9-10页
        1.1.2 SAW 滤波器结构及原理第10-12页
    1.2 金刚石多层膜 SAW 器件第12-16页
        1.2.1 金刚石多层膜 SAW 器件的提出及结构第12-14页
        1.2.2 金刚石 SAW 多层膜结构研究现状第14-16页
    1.3 本文工作构思第16-20页
        1.3.1 “BN/diamond”多层结构的提出第16-19页
        1.3.2 “(ZnO/BN)n/Diamond”多层结构的提出第19-20页
    1.4 本文主要工作第20-22页
第二章 c-BN 薄膜制备及性能研究第22-50页
    2.1 氮化硼薄膜制备和表征第22-25页
        2.1.1 射频磁控溅射法沉积氮化硼薄膜第22-23页
        2.1.2 样品性能测试表征手段第23-25页
    2.2 正交试验优化 c-BN 沉积工艺参数第25-30页
    2.3 直流偏压对样品性能的影响第30-33页
    2.4 衬底温度对立方氮化硼性能的影响第33-37页
    2.5 沉积功率对氮化硼性能的影响第37-40页
    2.6 退火温度对样品性能的影响第40-47页
        2.6.1 FTIR 分析表征第40-44页
        2.6.2 氮化硼薄膜的形貌分析表征(AFM 和 SEM)第44-47页
    2.7 金刚石基底 BN 薄膜的生长研究第47-49页
    2.8 小结第49-50页
第三章 氮化硼薄膜压电性能研究第50-74页
    3.1 微区压电性能测试——压电力显微镜模块(PFM)第50-56页
        3.1.1 原子力显微镜(AFM)第50页
        3.1.2 压电力显微镜工作原理第50-55页
        3.1.3 PFM 的应用第55-56页
    3.2 过渡层对氮化硼薄膜结构及电性能影响第56-60页
        3.2.1 实验部分第56页
        3.2.2 表面形貌和晶体结构第56-58页
        3.2.3 氮化硼薄膜电性能第58-60页
    3.3 c-BN/Cu 压电极化翻转性能研究第60-67页
        3.3.1 c-BN/Cu/SiO_2/Si 多层膜结构及性能第61-62页
        3.3.2 微区压电性能研究第62-67页
    3.4 c-BN/Pt/Si 结构压电性能研究第67-73页
    3.5 小结第73-74页
第四章 高平坦化氧化锌薄膜制备及压电性能研究第74-90页
    4.1 高平坦化氧化锌薄膜制备第74-82页
        4.1.1 实验部分第75-76页
        4.1.2 抛光压力对抛光性能的影响第76-79页
        4.1.3 抛光液 pH 值对抛光性能的影响第79-82页
    4.2 氧化锌薄膜的压电性能研究第82-89页
        4.2.1 CMP 前氧化锌薄膜性能第82-84页
        4.2.2 CMP 后氧化锌压电性能研究第84-89页
    4.3 小结第89-90页
第五章 ZnO/BN 叠层结构制备及压电性能研究第90-106页
    5.1 ZnO/BN 叠层结构制备第90-91页
    5.2 不同结构压电薄膜研究第91-99页
    5.3 ZnO/BN 叠层结构压电极化性能研究第99-105页
    5.4 小结第105-106页
第六章 SAW 滤波器器件单元制备第106-116页
    6.1 镜面金刚石薄膜的制备第106-108页
    6.2 镜面金刚石上压电薄膜的制备第108-109页
    6.3 Al 叉指电极的制备第109-113页
        6.3.1 曝光工艺第109-111页
        6.3.2 Al 电极生长工艺第111页
        6.3.3 Lift-off 工艺第111-113页
    6.4 器件单元性能测试第113-116页
第七章 结论与展望第116-118页
    7.1 结论第116-117页
    7.2 展望第117-118页
参考文献第118-127页
发表论文和参加科研情况说明第127-129页
致谢第129页

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