大型磁屏蔽环境的仿真与设计
| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 1.绪论 | 第8-16页 |
| 1.1 研究背景和意义 | 第8页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第8-14页 |
| 1.2.1 大型磁屏蔽环境的研究现状 | 第8-11页 |
| 1.2.2 大型磁屏蔽环境设计方法的研究现状 | 第11-14页 |
| 1.3 论文主要研究内容 | 第14-15页 |
| 1.4 论文章节安排 | 第15-16页 |
| 2.磁屏蔽基本理论 | 第16-28页 |
| 2.1 磁屏蔽基本原理 | 第16-18页 |
| 2.1.1 抵消静磁场 | 第16-17页 |
| 2.1.2 抵消低频交变场 | 第17-18页 |
| 2.1.3 消磁系统 | 第18页 |
| 2.2 磁屏蔽材料 | 第18-19页 |
| 2.2.1 坡莫合金 | 第19页 |
| 2.2.2 硅钢片 | 第19页 |
| 2.3 屏蔽效能分析 | 第19-26页 |
| 2.3.1 屏蔽系数解析计算方法 | 第20-23页 |
| 2.3.2 屏蔽系数数值计算方法 | 第23-26页 |
| 2.4 本章小结 | 第26-28页 |
| 3.磁屏蔽环境设计与优化 | 第28-44页 |
| 3.1 磁屏蔽环境模型设计 | 第28-38页 |
| 3.1.1 设计指标与约束条件 | 第28-29页 |
| 3.1.2 理论方法有效性分析验证 | 第29-35页 |
| 3.1.3 消磁系统设计 | 第35-38页 |
| 3.2 磁屏蔽环境的关键参数优化设计 | 第38-43页 |
| 3.2.1 解析法一次优化 | 第38-41页 |
| 3.2.2 设计方案数值验证 | 第41-43页 |
| 3.3 本章小结 | 第43-44页 |
| 4.磁屏蔽环境中孔洞分析方法的改进 | 第44-54页 |
| 4.1 孔洞分析研究 | 第44-50页 |
| 4.1.1 平行与垂直开孔 | 第44-46页 |
| 4.1.2 开孔形状面积等效 | 第46-47页 |
| 4.1.3 开孔位置等效叠加 | 第47页 |
| 4.1.4 开孔大小研究 | 第47-48页 |
| 4.1.5 开孔位置研究 | 第48-50页 |
| 4.2 数值仿真验证 | 第50-52页 |
| 4.3 本章小结 | 第52-54页 |
| 5.总结与展望 | 第54-56页 |
| 5.1 总结 | 第54页 |
| 5.2 展望 | 第54-56页 |
| 致谢 | 第56-58页 |
| 参考文献 | 第58-60页 |
