纳米多孔银、钛材料的制备及应用研究
CONTENTS | 第6-8页 |
摘要 | 第8-10页 |
Abstract | 第10-11页 |
本文的创新与主要贡献 | 第12-13页 |
第一章 绪论 | 第13-29页 |
1.1 薄膜材料概述 | 第13页 |
1.2 薄膜材料分类 | 第13-17页 |
1.2.1 硬质薄膜 | 第14-15页 |
1.2.2 铁电薄膜 | 第15页 |
1.2.3 透明导电薄膜 | 第15-16页 |
1.2.4 超晶格薄膜材料 | 第16-17页 |
1.2.5 多层薄膜材料 | 第17页 |
1.3 薄膜的制备方法 | 第17-20页 |
1.3.1 化学气相沉积(CVD) | 第17-18页 |
1.3.2. 物理气相沉积(PVD) | 第18-19页 |
1.3.3. 电化学沉积 | 第19页 |
1.3.4. 溶胶-凝胶法 | 第19-20页 |
1.4 薄膜材料的研究现状 | 第20-24页 |
1.4.1 拓扑绝缘体薄膜简介 | 第20-22页 |
1.4.2 寻找马约拉纳费米子 | 第22-24页 |
1.5 纳米多孔材料 | 第24-27页 |
1.5.1 纳米多孔材料概念 | 第24页 |
1.5.2 纳米多孔材料的研究现状 | 第24-27页 |
1.6 本论文的选题意义及主要研究内容 | 第27-29页 |
第二章 实验研究方法与实验设备 | 第29-35页 |
2.1 试验材料 | 第29页 |
2.2 仪器设备 | 第29-31页 |
2.2.1 离子束溅射 | 第29-30页 |
2.2.2 磁控共溅射 | 第30-31页 |
2.2.3 真空电弧炉 | 第31页 |
2.3 实验分析方法 | 第31-33页 |
2.3.1 X射线衍射分析 | 第31页 |
2.3.2 扫描电镜观测 | 第31-32页 |
2.3.3 原子力显微镜表征 | 第32页 |
2.3.4 透射电镜观察 | 第32-33页 |
2.4 性能测试 | 第33-35页 |
2.4.1 循环伏安法测定 | 第33页 |
2.4.2 恒电流充放电 | 第33-35页 |
第三章 银基薄膜的形貌表征及其耐蚀性研究 | 第35-45页 |
3.1 薄膜制备 | 第35-36页 |
3.1.1 磁控共溅射制备AgCuCe薄膜 | 第35页 |
3.1.2 离子束溅射制备AgCuCe薄膜 | 第35-36页 |
3.2 薄膜微观结构表征 | 第36-38页 |
3.3 耐蚀性研究 | 第38-43页 |
3.4 本章小结 | 第43-45页 |
第四章 多孔银薄膜探测过氧化氢能力的研究 | 第45-55页 |
4.1 前驱体薄膜的制备及表征 | 第45-49页 |
4.2 纳米多孔银薄膜的制备及表征 | 第49-50页 |
4.3 过氧化氢浓度的探测 | 第50-54页 |
4.4 本章小结 | 第54-55页 |
第五章 多孔钛骨架电化学电容器初探 | 第55-65页 |
5.1 Cu-Ti条带的制备 | 第55-56页 |
5.2 纳米多孔钛电极的制备 | 第56-59页 |
5.2.1 脱合金获得纳米多孔钛条带 | 第56-57页 |
5.2.2 电极制备 | 第57-58页 |
5.2.3 计算方法 | 第58-59页 |
5.3 结果与讨论 | 第59-64页 |
5.4 本章小结 | 第64-65页 |
第六章 结论与展望 | 第65-67页 |
6.1 全文总结 | 第65-66页 |
6.2 尚待进一步研究解决的问题 | 第66-67页 |
参考文献 | 第67-71页 |
致谢 | 第71-73页 |
附录 | 第73-75页 |
学位论文评阅及答辩情况表 | 第75页 |