摘要 | 第4-6页 |
Abstract | 第6-8页 |
第1章 绪论 | 第15-31页 |
1.1 课题背景、研究目的和意义 | 第15-17页 |
1.2 磁光效应的分类及理论基础 | 第17-21页 |
1.2.1 磁光科尔效应 | 第17-19页 |
1.2.2 法拉第旋光效应 | 第19-21页 |
1.3 非可逆光学器件的种类及原理 | 第21-24页 |
1.3.1 偏振相关型光隔离器 | 第21-22页 |
1.3.2 偏振无关型光隔离器 | 第22-23页 |
1.3.3 光环行器 | 第23-24页 |
1.4 磁光材料的发展现状 | 第24-29页 |
1.4.1 铁石榴石 | 第25-26页 |
1.4.2 正铁氧体 | 第26-28页 |
1.4.3 钙钛矿氧化物 | 第28-29页 |
1.4.4 其它磁性氧化物 | 第29页 |
1.5 本文的研究目的与内容 | 第29-31页 |
第2章 材料及试验方法 | 第31-42页 |
2.1 引言 | 第31页 |
2.2 材料的设计原则 | 第31-33页 |
2.3 研究内容 | 第33-34页 |
2.4 磁光薄膜及器件的制备 | 第34-36页 |
2.4.1 靶材的制备 | 第34页 |
2.4.2 薄膜的制备 | 第34-36页 |
2.4.3 波导器件的制备 | 第36页 |
2.5 磁光薄膜晶体结构及性能表征 | 第36-42页 |
2.5.1 晶体结构表征 | 第36-38页 |
2.5.2 磁性能测试 | 第38-39页 |
2.5.3 磁光性能测试 | 第39-40页 |
2.5.4 光学性能测试 | 第40页 |
2.5.5 电学性能测试 | 第40-41页 |
2.5.6 其它性能表征 | 第41-42页 |
第3章 Fe 掺杂钙钛矿 SrTiO_3氧化物薄膜的制备及性能研究 | 第42-82页 |
3.1 引言 | 第42页 |
3.2 薄膜的相结构与表面形貌 | 第42-47页 |
3.3 薄膜的磁性能 | 第47-62页 |
3.3.1 薄膜的室温磁性能 | 第47-58页 |
3.3.2 薄膜的低温磁性能 | 第58-62页 |
3.4 薄膜的磁光及光学性能 | 第62-67页 |
3.4.1 薄膜的磁光性能 | 第62页 |
3.4.2 薄膜的光学性能 | 第62-67页 |
3.5 激光能量密度对 STF40 薄膜晶体结构及物理性能的影响 | 第67-74页 |
3.6 薄膜厚度对 STF40 薄膜晶体结构及物理性能的影响 | 第74-77页 |
3.7 STF40 薄膜在单晶 Si 上的集成研究 | 第77-81页 |
3.8 本章小结 | 第81-82页 |
第4章 A 位掺杂对 Sr(Ti_(0.6)Fe_(0.4))O_3钙钛矿磁光薄膜的晶体结构和性能的影响 | 第82-107页 |
4.1 引言 | 第82页 |
4.2 Ce 元素掺杂 Sr(Ti_(0.6)Fe_(0.4))O_3磁光薄膜 | 第82-97页 |
4.2.1 (Ce_xSr_(1-x))(Ti_(0.6)Fe_(0.4))O_3(x=0、0.1、0.2 和 0.3)磁光薄膜 | 第82-94页 |
4.2.2 (Ce_(0.1)Sr_(0.9))(Ti_(1-x)Fe_x)O_3(x=0.3、0.4 和 0.5)磁光薄膜 | 第94-97页 |
4.3 La 元素掺杂 Sr(Ti_(0.6)Fe_(0.4))O_3磁光薄膜 | 第97-105页 |
4.4 小结 | 第105-107页 |
第5章 B 位元素掺杂对 Sr(Ti_(0.6)Fe_(0.4))O_3钙钛矿磁光薄膜的晶体结构和性能的影响 | 第107-135页 |
5.1 前言 | 第107页 |
5.2 Ga 掺杂对 Sr(Ti_(0.6)Fe_(0.4))O_3磁光薄膜的晶体结构和性能的影响 | 第107-129页 |
5.2.1 薄膜的晶体结构及表面形貌 | 第107-114页 |
5.2.2 薄膜的室温磁性能及磁光性能 | 第114-119页 |
5.2.3 磁光薄膜的低温磁性能 | 第119-125页 |
5.2.4 磁光薄膜的法拉第旋光性能 | 第125-126页 |
5.2.5 磁光薄膜的光学性能 | 第126-129页 |
5.3 Zr 元素掺杂 Sr(Ti_(0.6)Fe_(0.4))O_3磁光薄膜 | 第129-134页 |
5.4 小结 | 第134-135页 |
结论 | 第135-137页 |
参考文献 | 第137-149页 |
攻读博士学位期间发表的论文及其它成果 | 第149-151页 |
致谢 | 第151-152页 |
个人简历 | 第152页 |