摘要 | 第4-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
目录 | 第8-10页 |
CONTENTS | 第10-12页 |
第一章 绪论 | 第12-31页 |
1.1 引言 | 第12-13页 |
1.2 陶瓷的主要性能 | 第13-23页 |
1.2.1 介电性能 | 第13-14页 |
1.2.2 热导性能 | 第14页 |
1.2.3 材料的相结构及显微结构表征 | 第14-19页 |
1.2.4 铁磁性能 | 第19-21页 |
1.2.5 发光性能 | 第21-23页 |
1.3 AlN粉体/陶瓷制备技术的研究 | 第23-30页 |
1.3.1 前言 | 第23-24页 |
1.3.2 AlN粉体的制备工艺 | 第24-27页 |
1.3.2.1 固相法 | 第24-26页 |
1.3.2.1.1 铝粉直接氮化法 | 第24页 |
1.3.2.1.2 Al_2O_3碳热还原氮化法 | 第24-25页 |
1.3.2.1.3 热分解法 | 第25页 |
1.3.2.1.4 自蔓延合成法 | 第25-26页 |
1.3.2.2 液相法 | 第26-27页 |
1.3.2.2.1 溶胶-凝胶法 | 第26页 |
1.3.2.2.2 沉淀法 | 第26-27页 |
1.3.2.3 气相法 | 第27页 |
1.3.3 AlN陶瓷的制备工艺 | 第27-29页 |
1.3.3.1 常压烧结 | 第27页 |
1.3.3.2 热压烧结 | 第27-28页 |
1.3.3.3 放电等离子烧结(SPS) | 第28页 |
1.3.3.4 微波低温烧结 | 第28-29页 |
1.3.3.5 自蔓延烧结 | 第29页 |
1.3.4 结束语 | 第29-30页 |
1.4 研究背景及课题的确定 | 第30-31页 |
1.4.1 研究背景 | 第30页 |
1.4.2 课题的确定 | 第30-31页 |
第二章 样品的制备 | 第31-34页 |
2.1 高温固相法 | 第31页 |
2.2 放电等离子烧结法(SPS) | 第31-32页 |
2.3 Al_2O_3陶瓷的制备 | 第32页 |
2.4 磁控溅射法 | 第32-33页 |
2.5 Al_2O_3薄膜、AlN薄膜的制备 | 第33-34页 |
第三章 SPS制备氧化铝陶瓷与磁性能研究 | 第34-40页 |
3.1 前言 | 第34-35页 |
3.2 结果及讨论 | 第35-39页 |
3.2.1 相结构 | 第35页 |
3.2.2 显微结构 | 第35-36页 |
3.2.3 介电性能 | 第36-37页 |
3.2.4 导热性能 | 第37-38页 |
3.2.5 磁性能 | 第38-39页 |
3.3 小结 | 第39-40页 |
第四章 磁控溅射制备Al_2O_3薄膜光学性能及磁性能研究 | 第40-46页 |
4.1 前言 | 第40页 |
4.2 结果及讨论 | 第40-45页 |
4.2.1 XRD结果 | 第40-42页 |
4.2.2 光学性能 | 第42-44页 |
4.2.3 磁性能 | 第44-45页 |
4.3 小结 | 第45-46页 |
第五章 磁控溅射制备AlN薄膜及其光学特性研究 | 第46-51页 |
5.1 前言 | 第46页 |
5.2 结果及讨论 | 第46-50页 |
5.2.1 XRD结果 | 第46-47页 |
5.2.2 SEM结果 | 第47-48页 |
5.2.3 光学性能 | 第48-50页 |
5.3 小结 | 第50-51页 |
结论 | 第51-52页 |
参考文献 | 第52-57页 |
攻读学位期间发表与待发表的论文 | 第57-59页 |
致谢 | 第59页 |