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基于微纳结构的偏振探测技术研究

摘要第3-4页
ABSTRACT第4页
第一章 绪论第8-11页
    1.1 引言第8页
    1.2 国内外发展现状第8-9页
    1.3 研究背景及意义第9-10页
    1.4 论文安排第10-11页
第二章 微纳光栅偏振探测理论基础研究第11-18页
    2.1 引言第11页
    2.2 偏振探测的机理第11-12页
    2.3 纳米光栅的工作原理第12-14页
    2.4 偏振片的设计与仿真第14-17页
        2.4.1 微纳偏振片的结构设计第14-15页
        2.4.2 微纳偏振片的仿真分析第15-17页
    2.5 本章小结第17-18页
第三章 微偏振片阵列制备第18-26页
    3.1 引言第18页
    3.2 电子束曝光技术第18-20页
    3.3 离子束刻蚀技术第20-22页
    3.4 微偏振片阵列制备第22-26页
    3.5 本章小结第26页
第四章 偏振片的性能检测及分析第26-35页
    4.1 引言第26页
    4.2 微纳结构偏振阵列的性能检测第26-29页
    4.3 微偏振片阵列性能参数分析第29-31页
    4.4 光栅结构参数对探测特性的影响第31-35页
        4.4.1 光栅深度的影响第31-32页
        4.4.2 光栅周期的影响第32-34页
        4.4.3 光栅占空比的影响第34-35页
    4.5 本章小结第35页
第五章 偏振探测系统的设计与偏振成像分析第35-38页
    5.1 引言第35-36页
    5.2 偏振探测系统的设计第36页
    5.3 偏振成像特性分析第36-38页
    5.4 微纳偏振探测技术的应用前景第38页
    5.5 本章小结第38页
第六章 结论与展望第38-41页
    6.1 结论第38-39页
    6.2 展望第39-41页
参考文献第41-43页
作者简介及科研成果第43-44页
致谢第44页

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