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基于IBSD法制备Fe-Ga-Al-Y磁致伸缩薄膜及其性能研究

摘要第3-4页
Abstract第4-5页
第一章 绪论第9-22页
    1.1 磁致伸缩概述第9-12页
        1.1.1 磁致伸缩效应第9-10页
        1.1.2 磁致伸缩产生机理及其唯象理论第10-12页
        1.1.3 磁致伸缩的量子理论第12页
    1.2 磁致伸缩材料的简介第12-16页
        1.2.1 磁致伸缩材料的发展过程第12-13页
        1.2.2 磁致伸缩材料的分类第13-14页
        1.2.3 磁致伸缩材料的应用第14-16页
    1.3 新型Fe-Ga系磁致伸缩材料的研究进展第16-21页
        1.3.1 Fe-Ga系磁致伸缩块体材料的发展状况第16-19页
        1.3.2 Fe-Ga系磁致伸缩薄膜材料的发展状况第19-21页
    1.4 本论文研究的目的、意义、内容及创新点第21-22页
        1.4.1 本论文研究的目的、意义第21页
        1.4.2 本论文研究的内容、创新点第21-22页
第二章 实验研究方法第22-35页
    2.1 靶材的选择第22页
    2.2 衬底的选择与处理第22-24页
        2.2.1 衬底的选择第22-23页
        2.2.2 衬底的预处理第23-24页
    2.3 薄膜的制备第24-27页
        2.3.1 离子束溅射沉积法的原理第24页
        2.3.2 稳恒磁场发生器第24-26页
        2.3.3 薄膜的制备第26-27页
    2.4 薄膜厚度与沉积速率计算第27-29页
    2.5 薄膜的真空退火处理第29页
    2.6 薄膜成分、结构以及杨氏模量的测试第29-31页
        2.6.1 薄膜成分测试第29页
        2.6.2 薄膜表面形貌观测第29页
        2.6.3 薄膜XRD测试第29-30页
        2.6.4 薄膜磁畴结构观测第30页
        2.6.5 薄膜杨氏模量的测试第30-31页
    2.7 薄膜磁性能的测定第31-35页
        2.7.1 软磁性能的测定第31-32页
        2.7.2 静态磁伸性能的测定第32-33页
        2.7.3 动态振动特性测试第33-35页
第三章 Fe-Ga-Al-Y MF表面形貌、微结构、成分、磁畴结构与杨氏模量分析第35-42页
    3.1 薄膜的沉积速率及厚度第35页
    3.2 薄膜的XRD分析第35-36页
    3.3 Fe-Ga-Al-Y MF表面形貌、成分分析第36-37页
    3.4 薄膜的磁畴结构分析第37-39页
    3.5 薄膜的杨氏模量E_f分析第39-41页
        3.5.1 单层膜杨氏模量E_f的测试及分析第39-41页
        3.5.2 多层膜杨氏模量E_f的测试及分析第41页
    3.6 本章小结第41-42页
第四章 稳恒磁场环境下Fe-Ga-Al-Y MF的制备及其性能研究第42-51页
    4.1 成膜时外加稳恒磁场的方向对Fe-Ga-Al-Y MF性能的影响第42-46页
        4.1.1 成膜时外加稳恒磁场的方向对Fe-Ga-Al-Y MF软磁性能的影响第42-44页
        4.1.2 成膜时外加稳恒磁场的方向对Fe-Ga-Al-Y MF静态磁致伸缩性能的影响第44-45页
        4.1.3 成膜时外加稳恒磁场的方向对Fe-Ga-Al-Y MF振动特性的影响第45-46页
    4.2 成膜时外加稳恒磁场的大小对Fe-Ga-Al-Y MF性能的影响第46-50页
        4.2.1 成膜时外加稳恒磁场的大小对Fe-Ga-Al-Y MF软磁性能的影响第47-48页
        4.2.2 成膜时外加稳恒磁场的大小对Fe-Ga-Al-Y MF静态磁致伸缩性能的影响第48-49页
        4.2.3 成膜时外加稳恒磁场的大小对Fe-Ga-Al-Y MF振动特性的影响第49-50页
    4.3 本章小结第50-51页
第五章 真空退火对稳恒磁场环境下制备的Fe-Ga-Al-Y MF性能的影响第51-58页
    5.1 真空退火对稳恒磁场环境下制备的Fe-Ga-Al-Y MF软磁特性的影响第51-53页
    5.2 真空退火对稳恒磁场环境下制备的Fe-Ga-Al-Y MF静态磁致伸缩性能的影响第53-56页
    5.3 真空退火对稳恒磁场环境下制备的Fe-Ga-Al-Y MF振动特性的影响第56-57页
    5.4 本章小结第57-58页
第六章 不同组态的Fe-Ga-Al-Y/TbDy-Fe多层膜的制备及其性能研究第58-74页
    6.1 TbDy-Fe层厚度对不同组态多层膜性能的影响第58-65页
        6.1.1 TbDy-Fe层的厚度对不同组态多层膜软磁性能的影响第58-62页
        6.1.2 TbDy-Fe层的厚度对不同组态多层膜静态磁致伸缩性能的影响第62-63页
        6.1.3 TbDy-Fe层的厚度对不同组态多层膜振动特性的影响第63-65页
    6.2 Fe-Ga-Al-Y层厚度对不同组态多层膜性能的影响第65-72页
        6.2.1 Fe-Ga-Al-Y层的厚度对不同组态多层膜软磁性能的影响第65-68页
        6.2.2 Fe-Ga-Al-Y层的厚度对不同组态多层膜静态磁致伸缩性能的影响第68-70页
        6.2.3 Fe-Ga-Al-Y层的厚度对不同组态多层膜振动特性的影响第70-72页
    6.3 本章小结第72-74页
第七章 Fe-Ga-Al-Y MF与Fe-Ga-Al-Y/TbDy-Fe多层膜磁性能的对比第74-78页
    7.1 Fe-Ga-Al-Y MF与Fe-Ga-Al-Y/TbDy-Fe多层膜软磁性能的对比第74-75页
    7.2 Fe-Ga-Al-Y MF与Fe-Ga-Al-Y/TbDy-Fe多层膜静态磁致伸缩性能的对比第75-76页
    7.3 Fe-Ga-Al-Y MF与Fe-Ga-Al-Y /TbDy-Fe多层膜振动特性的对比第76-77页
    7.4 本章小结第77-78页
结论第78-80页
参考文献第80-86页
致谢第86-87页
个人简历第87页
在学期间研究成果及发表的学术论文第87页

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