| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 1 前言 | 第10-34页 |
| 1.1 过渡金属修饰的锗钨酸盐的研究进展 | 第10-20页 |
| 1.1.1 过渡金属修饰的缺位锗钨酸盐单体化合物 | 第11-12页 |
| 1.1.2 基于缺位Keggin锗钨多酸的夹心型二聚化合物 | 第12-13页 |
| 1.1.3 基于缺位Keggin锗钨多酸的夹心型三聚化合物 | 第13-15页 |
| 1.1.4 基于缺位Keggin锗钨多酸的夹心型四聚化合物 | 第15-17页 |
| 1.1.5 基于缺位Keggin锗钨多酸的夹心型六聚化合物 | 第17页 |
| 1.1.6 有机基团修饰的缺位锗钨酸化合物 | 第17-20页 |
| 1.2 饱和Keggin型锗钨多酸有机-无机杂化化合物的研究进展 | 第20-24页 |
| 1.2.1 锗钨多酸阴离子参与配位的有机-无机杂化化合物 | 第20-23页 |
| 1.2.2 锗钨多酸阴离子作为模板剂的有机-无机杂化化合物 | 第23-24页 |
| 1.3 过渡-稀土异核修饰的锗钨酸化合物的研究进展 | 第24-28页 |
| 选题思路 | 第28-29页 |
| 参考文献 | 第29-34页 |
| 2 过渡金属修饰的锗钨酸盐的合成及性能研究 | 第34-50页 |
| 2.1 实验部分 | 第34-36页 |
| 2.1.1 仪器与试剂 | 第34-35页 |
| 2.1.2 化合物1-3的合成 | 第35页 |
| 2.1.3 晶体结构测定 | 第35-36页 |
| 2.2 结果与讨论 | 第36-45页 |
| 2.2.1 晶体结构描述 | 第36-41页 |
| 2.2.2 X-射线粉末衍射 | 第41页 |
| 2.2.3 固体紫外-可见吸收光谱及光学禁带宽度 | 第41-42页 |
| 2.2.4 电化学性质 | 第42-44页 |
| 2.2.5 磁化率 | 第44-45页 |
| 本章小结 | 第45-46页 |
| 参考文献 | 第46-50页 |
| 3 基于{GeW_(12)}的金属有机框架合成及性能研究 | 第50-74页 |
| 3.1 实验部分 | 第50-53页 |
| 3.1.1 仪器与试剂 | 第50-51页 |
| 3.1.2 化合物4-8的合成 | 第51-52页 |
| 3.1.3 晶体结构测定 | 第52-53页 |
| 3.2 结果与讨论 | 第53-70页 |
| 3.2.1 晶体结构描述 | 第53-57页 |
| 3.2.2 X-射线粉末衍射 | 第57-58页 |
| 3.2.3 固体紫外-可见吸收光谱及光学禁带宽度 | 第58-60页 |
| 3.2.4 电化学性质 | 第60-65页 |
| 3.2.5 荧光性质 | 第65-66页 |
| 3.2.6 有机染料的吸附及光催化降解 | 第66-70页 |
| 本章小结 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-74页 |
| 4 过渡-稀土异核金属修饰的锗钨酸化合物的合成及性能研究 | 第74-92页 |
| 4.1 实验部分 | 第74-77页 |
| 4.1.1 仪器与试剂 | 第74-75页 |
| 4.1.2 化合物9-12的合成 | 第75-76页 |
| 4.1.3 晶体结构测定 | 第76-77页 |
| 4.2 结果与讨论 | 第77-88页 |
| 4.2.1 晶体结构描述 | 第77-79页 |
| 4.2.2 X-射线粉末衍射 | 第79-80页 |
| 4.2.3 固体紫外-可见吸收光谱 | 第80页 |
| 4.2.4 电化学性质 | 第80-83页 |
| 4.2.5 磁化率 | 第83-85页 |
| 4.2.6 光催化降解有机染料 | 第85-88页 |
| 本章小结 | 第88-90页 |
| 参考文献 | 第90-92页 |
| 结论 | 第92-94页 |
| 附录 | 第94-126页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第126-128页 |
| 致谢 | 第128页 |
