| 摘要 | 第5-6页 |
| abstract | 第6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-16页 |
| 1.1 本论文研究的目的和意义 | 第9-10页 |
| 1.2 国内外研究现状及发展趋势 | 第10-14页 |
| 1.2.1 国外研究现状以及发展趋势 | 第10-11页 |
| 1.2.2 国内研究现状及发展趋势 | 第11-14页 |
| 1.3 论文内容安排 | 第14-16页 |
| 第二章 基于表面等离激元的红外增强吸技术相关理论基础 | 第16-27页 |
| 2.1 基于表面等离激元的红外增强吸技术发展概述 | 第16-17页 |
| 2.2 关于表面等离激元的基础知识 | 第17-25页 |
| 2.2.1 无限大界面的表面等离激元 | 第17-20页 |
| 2.2.2 局域等离激元和表面等离激元共振 | 第20-23页 |
| 2.2.3 透射增强及其应用 | 第23-25页 |
| 2.2.4 远红外增强吸收结构工作原理 | 第25页 |
| 2.3 本章小结 | 第25-27页 |
| 第三章 基于表面等离激元的远红外增强吸收结构仿真 | 第27-44页 |
| 3.1 基于表面等离激元的远红外增强吸收结构单元模型 | 第27-29页 |
| 3.1.1 吸收结构单元模型建立 | 第27-28页 |
| 3.1.2 吸收结构单元模型材料选择 | 第28页 |
| 3.1.3 严格耦合波理论 | 第28-29页 |
| 3.1.4 金光栅结构理论计算分析 | 第29页 |
| 3.2 远红外增强吸收结构单元理论模型仿真 | 第29-33页 |
| 3.3 远红外增强吸收结构单元模型优化分析 | 第33-42页 |
| 3.3.1 远红外增强吸收结构各参数对吸收的影响 | 第35-36页 |
| 3.3.2 单一参数对增强吸收结构的影响 | 第36-42页 |
| 3.3.3 双层介质层与单层介质层结构比较分析 | 第42页 |
| 3.4 本章小结 | 第42-44页 |
| 第四章 远红外增强吸收结构单元微加工流程设计 | 第44-51页 |
| 4.1 增强吸收结构单元微加工方式选择 | 第44-48页 |
| 4.2 增强吸收结构单元微加工实验全部流程 | 第48-49页 |
| 4.3 本章小结 | 第49-51页 |
| 第五章 增强吸收结构单元样品制备 | 第51-58页 |
| 5.1 增强吸收结构单元微加工实验 | 第51-54页 |
| 5.2 增强吸收结构单元微加工样品加工总结 | 第54-57页 |
| 5.3 本章小结 | 第57-58页 |
| 结论 | 第58-60页 |
| 参考文献 | 第60-66页 |
| 致谢 | 第66页 |