| 摘要 | 第5-7页 |
| abstract | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第11-22页 |
| 1.1 铁磁性形状记忆合金 | 第11-12页 |
| 1.2 铁磁性形状记忆合金的马氏体相变 | 第12-16页 |
| 1.2.1 NiMnGa磁性形状记忆合金 | 第12-14页 |
| 1.2.2 Ni-Fe-Ga形状记忆合金 | 第14-16页 |
| 1.3 NiMn-X(X=In,Sn,Sb)基铁磁性形状记忆合金 | 第16-18页 |
| 1.4 NiMnSn合金的磁热效应研究 | 第18-20页 |
| 1.5 选题意义及研究内容 | 第20-22页 |
| 第2章 实验材料与研究方法 | 第22-28页 |
| 2.1 样品的制备 | 第22-23页 |
| 2.2 组织结构分析 | 第23-24页 |
| 2.3 相变行为分析 | 第24-25页 |
| 2.4 形状记忆效应的测定 | 第25-26页 |
| 2.5 磁性能测试 | 第26-27页 |
| 2.6 本章小结 | 第27-28页 |
| 第3章 薄带的马氏体相变与组织结构 | 第28-49页 |
| 3.1 引言 | 第28页 |
| 3.2 薄带的显微组织和相组成 | 第28-34页 |
| 3.2.1 制备态薄带 | 第28-29页 |
| 3.2.2 热处理态薄带 | 第29-34页 |
| 3.2.3 X射线衍射分析 | 第34页 |
| 3.3 相变行为分析 | 第34-43页 |
| 3.3.1 制备态薄带的马氏体相变 | 第34-35页 |
| 3.3.2 热处理对马氏体相变的影响 | 第35-43页 |
| 3.4 形状记忆效应 | 第43-48页 |
| 3.4.1 900 °C退火后薄带的形状记忆效应 | 第43-47页 |
| 3.4.2 700 °C及 800 °C退火后薄带的形状记忆效应 | 第47-48页 |
| 3.5 本章小结 | 第48-49页 |
| 第4章 薄带的磁性能分析 | 第49-59页 |
| 4.1 引言 | 第49页 |
| 4.2 磁场对相变温度的影响 | 第49-50页 |
| 4.3 磁热效应 | 第50-58页 |
| 4.3.1 制备态薄带的磁热效应 | 第50-52页 |
| 4.3.2 700°C退火后薄带的磁热效应 | 第52-53页 |
| 4.3.3 800 °C退火后薄带的磁热效应 | 第53-55页 |
| 4.3.4 900 °C退火后薄带的磁热效应 | 第55-58页 |
| 4.4 本章小结 | 第58-59页 |
| 结论 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-66页 |
| 攻读硕士学位论文期间发表的论文和取得的科研成果 | 第66-67页 |
| 致谢 | 第67页 |