| 摘要 | 第7-9页 |
| Abstract | 第9-10页 |
| 第1章 绪论 | 第13-21页 |
| 1.1 半导体光催化技术的发展概述 | 第13页 |
| 1.2 半导体光催化原理 | 第13-14页 |
| 1.3 半导体光催化效率的影响因素 | 第14-16页 |
| 1.3.1 光催化剂的禁带宽度 | 第15页 |
| 1.3.2 光催化剂的结晶性 | 第15页 |
| 1.3.3 光催化剂的吸附性 | 第15页 |
| 1.3.4 光催化剂的形貌与结构 | 第15-16页 |
| 1.4 ZnO光催化剂的研究现状 | 第16-19页 |
| 1.4.1 ZnO光催化剂的制备方法 | 第16-17页 |
| 1.4.2 ZnO光催化剂使用中存在的不足 | 第17页 |
| 1.4.3 ZnO光催化剂性能的改进方法 | 第17-19页 |
| 1.5 本文选题的意义和研究内容 | 第19-21页 |
| 第2章 ZnO的制备及其光催化性能研究 | 第21-33页 |
| 2.1 引言 | 第21-22页 |
| 2.2 实验部分 | 第22-24页 |
| 2.2.1 实验试剂与仪器 | 第22页 |
| 2.2.2 ZnO的制备 | 第22页 |
| 2.2.3 ZnO的结构表征与光催化性能的测试 | 第22-24页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第24-32页 |
| 2.3.1 ZnO的结构表征结果 | 第24-25页 |
| 2.3.2 ZnO光催化性能的评价 | 第25-30页 |
| 2.3.3 ZnO光催化降解MO的动力学研究 | 第30-31页 |
| 2.3.4 ZnO光催化降解MO的机理 | 第31-32页 |
| 2.4 本章小结 | 第32-33页 |
| 第3章 ZnO/RGO的制备及其光催化性能研究 | 第33-45页 |
| 3.1 引言 | 第33页 |
| 3.2 实验部分 | 第33-36页 |
| 3.2.1 实验试剂与仪器 | 第33-34页 |
| 3.2.2 ZnO/RGO的制备 | 第34-35页 |
| 3.2.3 ZnO/RGO的结构表征与光催化性能的测试 | 第35-36页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第36-44页 |
| 3.3.1 ZnO/RGO的结构表征结果 | 第36-37页 |
| 3.3.2 ZnO/RGO光催化性能的评价 | 第37-41页 |
| 3.3.3 与RGO复合对ZnO光催化降解MO的动力学的影响 | 第41-43页 |
| 3.3.4 ZnO/RGO光催化剂降解MO的机理 | 第43-44页 |
| 3.4 本章结论 | 第44-45页 |
| 第4章 Ag/ZnO/RGO的制备及其光催化性能研究 | 第45-56页 |
| 4.1 引言 | 第45页 |
| 4.2 实验部分 | 第45-47页 |
| 4.2.1 实验试剂与仪器 | 第45-46页 |
| 4.2.2 Ag/ZnO/RGO光催化剂的制备 | 第46页 |
| 4.2.3 Ag/ZnO/RGO的结构表征与光催化性能的测试 | 第46-47页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第47-55页 |
| 4.3.1 Ag/ZnO/RGO的结构表征结果 | 第47-49页 |
| 4.3.2 Ag/ZnO/RGO光催化性能的评价 | 第49-52页 |
| 4.3.3 载Ag对催化剂光催化降解MO动力学的影响 | 第52-54页 |
| 4.3.4 Ag/ZnO/RGO光催化剂降解MO的机理 | 第54-55页 |
| 4.4 本章小结 | 第55-56页 |
| 本文结论 | 第56-58页 |
| 参考文献 | 第58-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
| 附录A 攻读硕士期间发表的学术论文目录 | 第66页 |
