| 致谢 | 第6-8页 |
| 摘要 | 第8-10页 |
| ABSTRACT | 第10-12页 |
| 第一章 绪论 | 第16-25页 |
| 1.1 研究的背景及意义 | 第16页 |
| 1.2 剪切流场中的颗粒凝并积聚研究现状 | 第16-18页 |
| 1.3 剪切流颗粒弥散方法研究现状 | 第18-21页 |
| 1.4 颗粒喷射弥散过程机理的研究现状 | 第21-22页 |
| 1.5 本文的主要内容及创新点 | 第22-25页 |
| 1.5.1 主要内容 | 第22-24页 |
| 1.5.2 创新点 | 第24-25页 |
| 第二章 纳米颗粒在剪切流中的凝并与积聚 | 第25-47页 |
| 2.1 高雷诺数下纳米颗粒两相圆柱绕流 | 第25-42页 |
| 2.1.1 绪论 | 第25-26页 |
| 2.1.2 实验装置及方法 | 第26-30页 |
| 2.1.2.1 实验装置 | 第26-27页 |
| 2.1.2.2 实验方法 | 第27-28页 |
| 2.1.2.3 纳米颗粒分布与流场的特征参数 | 第28-30页 |
| 2.1.3 圆柱绕流场的颗粒分布特性 | 第30-41页 |
| 2.1.3.1 颗粒总浓度的演化 | 第30-32页 |
| 2.1.3.2 粒径分布 | 第32-33页 |
| 2.1.3.3 不同Re数下数密度的分布特性 | 第33-41页 |
| 2.1.4 结论 | 第41-42页 |
| 2.2 有限边界平面射流中纳米颗粒的凝并与弥散 | 第42-47页 |
| 2.2.1 绪论 | 第42-44页 |
| 2.2.2 控制方程 | 第44页 |
| 2.2.3 流场及数值求解参数 | 第44-45页 |
| 2.2.4 结果分析 | 第45-46页 |
| 2.2.5 结论 | 第46-47页 |
| 第三章 纳米颗粒连续喷射弥散方法及装置 | 第47-57页 |
| 3.1 引言 | 第47-48页 |
| 3.2 连续喷射弥散方法整体方案 | 第48-50页 |
| 3.3 精密定量粉末给料器 | 第50-54页 |
| 3.3.1 给料器工作原理及仪器参数 | 第50-51页 |
| 3.3.2 给料器给料特性研究 | 第51-54页 |
| 3.4 压力平衡单元结构及其原理 | 第54-55页 |
| 3.5 喷射器结构及其原理 | 第55-56页 |
| 3.6 本章小结 | 第56-57页 |
| 第四章 纳米颗粒多电荷修正理论及算法 | 第57-89页 |
| 4.1 引言 | 第57-59页 |
| 4.2 多电荷修正理论(MCC) | 第59-67页 |
| 4.2.1 纳米颗粒的电迁移理论 | 第59-61页 |
| 4.2.2 纳米颗粒粒径分布的反演算法 | 第61-63页 |
| 4.2.3 Hoppel多电荷修正(H-MCC) | 第63-65页 |
| 4.2.4 粒径分布拟合多电荷修正(f-MCC) | 第65-67页 |
| 4.3 拟合多电荷修正(F-MCC)算法实现 | 第67-73页 |
| 4.3.1 延伸区粒径分布的Gumbel拟合 | 第67-68页 |
| 4.3.2 全区间粒径分布的H-MCC | 第68-73页 |
| 4.4 结果分析 | 第73-87页 |
| 4.4.1 基于雾化弥散结果的f-MCC方法验证 | 第73-78页 |
| 4.4.2 基于干式喷射弥散粒径分布的f-MCC特性研究 | 第78-87页 |
| 4.4.2.1 国产TiO_2的f-MCC | 第79-82页 |
| 4.4.2.2 进口TiO_2的f-MCC | 第82-84页 |
| 4.4.2.3 国产SiO_2的f-MCC | 第84-85页 |
| 4.4.2.4 进口SiO_2的f-MCC | 第85-87页 |
| 4.5 本章小结 | 第87-89页 |
| 第五章 无改性亚微米及纳米颗粒喷射弥散过程机理研究 | 第89-112页 |
| 5.1 引言 | 第89页 |
| 5.2 实验方法及分析技术 | 第89-92页 |
| 5.2.1 喷射弥散装置的参数设置 | 第89-90页 |
| 5.2.2 SMPS参数设置 | 第90页 |
| 5.2.3 采样方法 | 第90-91页 |
| 5.2.4 数据后处理 | 第91-92页 |
| 5.3 ENPs性质对粒径分布的影响 | 第92-97页 |
| 5.3.1 TiO_2的喷射弥散 | 第92-95页 |
| 5.3.2 SiO_2的喷射弥散 | 第95-97页 |
| 5.4 给料速率对粒径分布的影响 | 第97-102页 |
| 5.4.1 给料速率Dr对TiO_2粒径分布的影响 | 第97-101页 |
| 5.4.2 给料速率Dr对SiO_2粒径分布的影响 | 第101-102页 |
| 5.5 喷射器入口压力对粒径分布的影响 | 第102-108页 |
| 5.5.1 P_j对TiO_2粒径分布的影响 | 第103-106页 |
| 5.5.2 P_j对SiO_2粒径分布的影响 | 第106-108页 |
| 5.6 喷射弥散过程机理 | 第108-111页 |
| 5.6.1 颗粒间的粘着力 | 第108-109页 |
| 5.6.2 喷射器对颗粒积聚体的分散力 | 第109-111页 |
| 5.7 本章小结 | 第111-112页 |
| 第六章 总结与展望 | 第112-116页 |
| 6.1 总结 | 第112-115页 |
| 6.2 展望 | 第115-116页 |
| 参考文献 | 第116-123页 |
| 作者简历及在学期间所取得的科研成果 | 第123页 |
